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脈沖等離子PulsPlasma?系統包括真空爐室，輔助加熱系統，保溫系統，溫度測量系統，爐室開關系統，工藝氣體循環系統，冷卻系統，工藝控制系統以及離子發生器系統。這其中的離子發生器系統是普發拓普公司的**設計，可以完全避免打弧現象的發生而且節能效果明顯。爐體臥式設計，適合處理大型零件的處理。根據設備的大小，加熱控制區至少配有三組獨立控制升溫和降溫的加熱器，通過這些獨立控制的加熱器獲得**的均溫性。

工藝特點：

• 通過熱壁技術實現良好的均溫性

• 能源有效利用，工藝氣體消耗少，無污染氣體

• 靈活的滲氮溫度，溫度范圍 300 ℃ - 600 ℃

• 白亮層可控

• 可處理不銹鋼

• 可處理燒結鋼

• 可處理鈦合金

• 可處理高合金鋼

設備特點：

• 不產生打弧，工件表面無破壞

• 全自動工藝控制，工件內部測溫

• 臺車式裝載系統，多達40噸的裝載量

• 獨特的加熱和控制系統，至少3區獨立的加熱和冷卻區域

• 控制區溫度均勻分布

• 獨有的PulsPlasma?電源，電壓和電流近乎方波，幾微妙內獲得

• 設定的全部脈沖電流，主動抑制打弧監測（開關時間< 0.1 μs）

• 電源可升級至5年質保

• 可在低溫下對工件表面進行等離子清洗

• 航天保溫材料，熱容量低，功率損耗低，節省重量