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1200低真空CVD系統(tǒng)
1200低真空CVD系統(tǒng)

參考價格

20-30萬元

型號

YHGS-120612I-3ZD

品牌

上海煜志

產(chǎn)地

上海

樣本

暫無
杭州嘉悅智能設(shè)備有限公司

金牌會員

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第9年

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簡介

1200℃低真空CVD系統(tǒng)是由滑動式管式實驗電爐,混氣系統(tǒng),真空及壓力系統(tǒng)等組成。此系統(tǒng)燒結(jié)溫度可達(dá)1200℃,通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫;配置不同的真空系統(tǒng)來達(dá)到理想的真空度;同時通過三路高精度質(zhì)量流量計控制不同氣體。是為石墨烯生長、研發(fā)的專用爐,也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。

主要技術(shù)參數(shù)

爐體結(jié)構(gòu)

整機(jī)采用SUS304不銹鋼材質(zhì),流線型外觀,斷熱式結(jié)構(gòu);

日本技術(shù)真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛,保溫性能好;

爐子底部裝有一對滑軌,移動平穩(wěn);

爐子可以手動從一端滑向另一端,實現(xiàn)快速的加熱和冷卻;

支撐兩端安裝油壓緩沖器;

爐蓋可開啟,可以實時觀察加熱的物料

尺寸重量

1240*600*1340mm;170kg

電源

電壓:AC220V 50/60Hz;功率:4KW

爐管

高純石英管,高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強(qiáng),耐腐蝕,熱膨脹系數(shù)極小;

尺寸:Φ60/80/100*1200mm

法蘭及支撐

SUS304不銹鋼快速法蘭,通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空;

一個卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷;

可調(diào)節(jié)的法蘭支撐,平衡爐管的受力支撐;

包含進(jìn)氣、出氣、真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合。

 

加熱系統(tǒng)

加熱元件采用優(yōu)質(zhì)合金絲,表面負(fù)荷高、經(jīng)久耐用; 加熱區(qū)長度:300mm;恒溫區(qū)長度:150mm; 工作溫度:≤1150℃; **溫度:1200℃;

升溫速率:推薦≤10℃/min,*快升溫速度30℃/min

溫控系統(tǒng)

日本富士儀表,64段控溫程序,可分步、分段; 測溫元件:N型熱電偶; 控溫精度:±1℃

混氣系統(tǒng)

三路質(zhì)量流量計:數(shù)字顯示、氣體流量自動控制

內(nèi)置不銹鋼混氣箱,每路氣體管路均配有逆止閥

管路采用不銹鋼管,接口為Φ6卡套

每路氣體進(jìn)氣管路配有不銹鋼針閥

通過控制面板上的旋鈕來調(diào)節(jié)氣體流量

流量規(guī)格:0~1SLM 流量精度:±1.5%

真空系統(tǒng)

采用雙極旋片真空泵,真空度可達(dá)10Pa

可選配件

高真空系統(tǒng),各種剛玉、石英坩堝,石英管,計算機(jī)控制軟件

保修期

整機(jī)一年保修(相關(guān)耗材除外)

可根據(jù)客戶要求定制!

特色與優(yōu)勢


1.滑動式爐體結(jié)構(gòu)實現(xiàn)快速升降溫;

2.開啟式爐蓋設(shè)置,降低沉積溫度、加快沉積速度;

3.日本富士溫控儀表,64段控溫程序,可分布,分段,三路質(zhì)量流量計,數(shù)字顯示精確控制氣體流量;

4.雙極旋片真空泵+分子泵,實現(xiàn)對真空度的不同要求,極限真空可達(dá)4.0*10-4Pa。

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