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主要技術參數：
▲**溫度：1100—1650℃ ▲預抽真空度：10Pa ▲均溫區溫差：±5℃（真空/氣氛）
▲控溫精度：±1℃ ▲氣氛：氫氣、氮氣 ▲冷卻方式：自然冷卻、氫氣外循環快冷
▲控制方式：手動+程序自控▲設備結構：立式或臥式
設備構成
▲爐體（鉬制爐膽及加熱體） ▲升降機構 ▲平臺 ▲底盤（鉬制料架）▲預抽真空系統 ▲充氣快冷系統▲水冷系統 ▲氣動系統 ▲自動控制系統 ▲計算機系統
主要用途
本設備主要用于電子行業陶瓷金屬化表面處理，粉末冶金的氫氣氣氛燒結，材料無氧化熱處理、表面凈化處理等領域。
陶瓷金屬化爐常用產品規格 | ||
參數\型號 | ZK-500 | ZK-600 |
工作區尺寸φ×L（mm） | φ500×800 | φ600×900 |
裝載重量（kg） | 500 | 600 |
**溫度（℃） | 1100--1600 | 1100--1600 |
溫度均勻性（℃） | ±5 | ±5 |
加熱功率（kW） | 200 | 230 |
工作環境 | H2，N2 | H2，N2 |
極限真空度（Pa） | 1000Pa | 1000Pa |
壓升率（Pa/h） | 0.67 | 0.67 |
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