參考價(jià)格
面議型號(hào)
X'Pert3 MRD品牌
馬爾文帕納科產(chǎn)地
荷蘭樣本
暫無(wú)誤差率:
N/A分辨率:
N/A重現(xiàn)性:
N/A儀器原理:
靜態(tài)光散射分散方式:
N/A測(cè)量時(shí)間:
3-5min測(cè)量范圍:
N/A看了高分辨X射線衍射儀 X'Pert3 MRD的用戶又看了
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X'Pert 平臺(tái)在馬爾文帕納科 X 射線衍射系統(tǒng)的新型 X'Pert3 系列中得以延用。 X'Pert3 平臺(tái)具有新型機(jī)載控制電子裝置,符合X 射線和運(yùn)動(dòng)安全規(guī)范,且具有環(huán)保和可靠性能,已準(zhǔn)備好迎接未來(lái)的挑戰(zhàn)。
X'Pert3 MRD 系列新增功能具體包括:
? 全新高分辨率測(cè)角儀,它使用 Heidenhain 編碼器,因而準(zhǔn)確性更高且定位反饋時(shí)間更短
?無(wú)需使用工具即可快速將光管位置從點(diǎn)焦斑更改為線焦斑
? 得益于氣動(dòng)快門和光束衰減器,系統(tǒng)正常運(yùn)行時(shí)間滿足過(guò)程控制要求
? CRISP*(包括無(wú)鉛光管塔)確保入射光路組件的壽命更長(zhǎng)
? 第二代 PreFIX,確保實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的光學(xué)器件定位
? 面向未來(lái)的單板計(jì)算機(jī)控制器,確保更好的連接性和更出色的遠(yuǎn)程支持
*CRISP 指的是耐腐蝕智能入射光路。CRISP 可防止入射光路中出現(xiàn)由 X 射線引起的電離空氣造成的腐蝕。該技術(shù)使儀器運(yùn)行更可靠,避免額外的維護(hù)工作。
PreFIX 技術(shù)
隨著動(dòng)力電池和新能源汽車的需求爆發(fā),鋰電正極材料也正在快速迭代,其中三元材料逐漸成為動(dòng)力電池的主流選擇。目前三元材料中的鎳鈷錳成分分析多采用ICP分析方法,化學(xué)分析過(guò)程相對(duì)復(fù)雜、分析時(shí)間長(zhǎng)、梯度稀釋誤
2021-08-06
展期:2025年3月10日-12日展館:上海世博展覽館 H1 號(hào)館地址:上海市?浦東博成路850號(hào)展位號(hào):H1-A4262025年3月10日至12日,馬爾文帕納科(Malvern Panalytica
為了更好的服務(wù)于一直以來(lái)選擇并支持馬爾文帕納科分析技術(shù)的廣大用戶,除了上述客戶關(guān)懷季的巡檢活動(dòng),我們還將在4月奉上一系列服務(wù)日活動(dòng):四場(chǎng)分別針對(duì)激光粒度儀、納米粒度儀、X射線衍射儀、X射線熒光光譜儀用
近日,馬爾文帕納科(Malvern Panalytical)宣布其最新推出的X射線熒光光儀(XRF)"Revontium 極光"正式接受訂單,并成功在美國(guó)High Desert A
本文摘要磨料用SiO2 漿料的顆粒粒度對(duì)硅晶片的微觀形貌有直接影響,進(jìn)而會(huì)影響到后續(xù)工序電介質(zhì)膜的均勻性;此外,漿料的穩(wěn)定性也會(huì)影響晶片拋光過(guò)程,所以磨料的顆粒表征非常重要,本文介紹了利用動(dòng)態(tài)光散射技
除了化學(xué)性之外,金屬粉末的物理特性還決定這增材制造的性能,包括粉末的整體特性和單個(gè)金屬顆粒的特性。關(guān)鍵的整體特性是指堆積密度和流動(dòng)性。堆積密度和流動(dòng)性受顆粒粒度和形狀等形態(tài)特性的影響。本文將介紹顆粒粒
增材制造中如果金屬粉末成分不一致會(huì)造成哪些問(wèn)題,為了杜絕這些問(wèn)題我們要如何快速、準(zhǔn)確地獲取金屬粉末的元素分析結(jié)果,以確保最終金屬粉末滿足增材制造的要求。本文將介紹元素分析在增材制造領(lǐng)域的重要性,并介紹