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硅負(fù)極（納米硅、氧化亞硅、多孔硅）CVD氣相沉積碳包覆回轉(zhuǎn)爐
適用物料：納米硅、硅氧（氧化亞硅）、多孔硅
使用工況：CVD氣相沉積碳包覆（一次包覆、二次包覆）
均勻包覆碳含量：1.6%-22%（可控可調(diào)）
適用氣體：氮?dú)狻鍤狻⒓淄椤⒁胰病睔猓ū⒈健⒁掖肌r青等）
公司備有多臺(tái)公斤級(jí)、百公斤級(jí)硅負(fù)極用cvd爐系統(tǒng)免費(fèi)供客戶實(shí)驗(yàn)用，公司目前已完成300+批次的硅負(fù)極cvd實(shí)驗(yàn)，通過(guò)客戶反饋實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)不斷優(yōu)化cvd爐的設(shè)計(jì)。通過(guò)大量實(shí)驗(yàn)積累了豐富的cvd經(jīng)驗(yàn)。
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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