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氣體團簇粒子束GCIB
簡介
PHI Ar2500 氣體團簇離子槍是進行深度分析有機物和聚合物而不破壞其化學狀態的有效工具。類似于C60的應用，使一次離子束得能量均分到60個碳原子上； Ar2500能獲得更低的沖擊能量，由于其團簇是由2500個氬離子構成。這種Ar2500 GCIB氬離子在深度分析時，對樣品造成的破壞很小，同時也避免了類似C-60離子濺射過程中離子堆積的可能性。總之， Ar2500 GCIB自身非常適合深度分析，如聚亞酰胺（PI）等廣泛用于半導體、太陽能電池和顯示器工業的材料。ULVAC-PHI該型號產品在第五十七屆國際博覽會（2011年10月17-22日在Albuquerque, NM.舉行）上被美國真空學會（AVS）授予**展品獎。
圖1 - ULVAC-PHI**的Ar2500 GCIB型離子槍
應用優勢
聚亞酰胺（PI）薄膜樣品用不同Ar離子束流能量濺射后，下面的表格1總結了XPS測試的濺射前后化學組成。
表1 - Ar離子濺射前后聚亞酰胺（PI）樣品原子濃度的匯總
從上面的結果中，看出Ar離子濺射后聚亞酰胺樣品化學組成明顯改變，該樣品緊接著用配有Ar2500 GCIB的XPS進行深度剖析。如下圖2所示，Ar2500 GCIB可以非常有效地移除受損層，并將PI層恢復其原本得化學結構，由此可見，即使如PI般的樣品，用Ar2500 GCIB濺射的時也不會對化學組成造成破壞。
圖2 - Ar離子濺射后的受損層，經Ar2500 GCIB剝離后，回到PI的初始狀態
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