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WM—10水汞裝置[專利]
WM—10水汞裝置[專利]

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北京

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暫無
北京北分瑞利分析儀器(集團)公司

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儀器簡介:

WM—10水汞裝置[**] 冷原子熒光光譜法測定水樣中超痕量汞;**用于直接測定“水樣中超痕量汞”新穎的專用裝置 (可與本公司AF–630A/ 640A/ 610B原子熒光光譜儀聯用),從而拓展了原子熒光分析技術的新領域。

主要特點:

● 可滿足地表水、海水(Ⅰ類、Ⅱ類)、自來水、 井水及水源水等水樣中超痕量汞的測定。

● 超高分析靈敏度、檢出限可達0.0003μg/L。

● 樣品與KBH4的進樣量及氬氣流量由微機程序自動 控制,可以大大提高測定精密度。

● 獨特設計的汞蒸氣富集的氣液分離器。

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10分

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10分

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