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組合式熒光光譜測量系統-OmniPL系列
| 光 致發光（photoluminescence）即PL，是用紫外、可見或紅外輻射激發發光材料而產生的發光。PL 熒光測量系統通常是用較強的單色光（如激光器等）激發樣品/ 材料（如GaN/ZnO 等）產生熒光，通過對其熒光光譜的測量，分析該材料的光學特性。典型應用于LED 發光材料、半導體材料的研究。 OmniPL 系列穩態熒光光譜測量系統采用模塊化設計，在滿足PL 光譜測量的同時，用戶可以根據不同的實驗需求，選擇不同的配件，靈活的進行系統功能的擴展。 |
系統組成：激發光源+ 樣品室＋熒光光譜儀＋數據采集及處理系統＋軟件＋計算機
OmniPL-LF325型穩態光致發光光譜系統主要技術參數
| ● 激發光源：HeCd激光器 ● 激發光功率： 20mW ● 激發波長：325nm ● 瑞利散射截止濾光片，OD>6 ● 熒光光譜儀光譜范圍：300-850nm（可擴展至2500nm） ● 熒光光譜分辨率：優于0.2nm（@1200g/mm光柵） ● 波長準確度：±0.2nm ● 波長重復性：±0.1nm ● 光探測器：科研級制冷型背感光CCD，300-1000nm ● 可選配閉循環超低溫制冷機，*低溫度可達2K ● 系統擴展性：系統采用模塊化設計，可擴展至近紅外波段光譜測量 ● 軟件提供靈活的實驗運行步驟自定義功能，可隨時儲存和提取圖譜，并能夠進行復雜的光譜處理及光譜數據間的四則運算系統結構圖PL圖譜 |
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