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產品簡介：

SE橢偏儀系列薄膜分析產品來自美國AST公司，其可以實現薄膜厚度精準測量，同時可以實現12層的薄膜厚度測試，同樣對于材料NK參數也可以實現準確測量，為人們針對薄膜進行分析提供了極大便利。

特點：

· 易于安裝

· 基于視窗結構的軟件，很容易操作

· 先進的光學設計，以確保能發揮出**的系統性能

· 能夠自動的以0.01度的分辨率改變入射角度

· 高功率的DUV－VIS光源，能夠應用在很寬的波段內

· 基于陣列設計的探測器系統，以確保快速測量

· *多可測量12層薄膜的厚度及折射率

· 能夠用于實時或在線的監控光譜、厚度及折射率等參數

· 系統配備大量的光學常數數據及數據庫

· 對于每個被測薄膜樣品，用戶可以利用先進的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進行色散或者復合模型（EMA）測量分析；

· 三種不同水平的用戶控制模式：專家模式、系統服務模式及初級用戶模式

· 靈活的專家模式可用于各種獨特的設置和光學模型測試

· 健全的一鍵按鈕(Turn－key)對于快速和日常的測量提供了很好的解決方案

· 用戶可根據自己的喜好及操作習慣來配置參數的測量

· 系統有著全自動的計算功能及初始化功能

· 無需外部的光學器件，系統從樣品測量信號中，直接就可以對樣品進行精確的校準

· 可精密的調節高度及傾斜度

· 能夠應用于測量不同厚度、不同類型的基片

· 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測量波長擴展、焦斑測量等各種特殊的需求

· 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面。

系統配置：

· 型號：SE200AM-M300;SE500BA系列

· 探測器：PMT

· 光源：高功率的DUV-Vis光源

· 指示角度變化：根據設定的程序，自動變化

· 平臺：ρ-θ配置的自動成像

· 軟件：TFProbe 3.2版本的軟件

· 計算機：Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器

· 電源：110–240V AC/50-60Hz，6A

· 保修：一年的整機及零備件保修

規格：

· 波長范圍：250nm到850 nm

· 波長分辨率: 0.1nm

· 光斑尺寸：1mm至5mm可變

· 入射角范圍：10到90度

· 入射角變化分辨率：5度 間隔

· 樣品尺寸：**直徑為300mm

· 基板尺寸：*多可至20毫米厚

· 測量厚度范圍*：0nm〜10μm

· 測量時間：約1秒/位置點

· 精確度*：優于0.25％

· 重復性誤差*：小于1 Ǻ

選項:

· 用于反射的光度測量或透射測量

· 用于測量小區域的微小光斑

· 用于改變入射角度的自動量角器

· X－Y成像平臺(X-Y模式，取代ρ-θ模式)

· 加熱/致冷平臺

· 樣品垂直安裝角度計

· 波長可擴展到遠DUV或IR范圍

· 聯合MSP的數字成像功能，可用于對樣品的圖像進行測量

應用:

· 半導體制造（PR，Oxide， Nitride..)

· 液晶顯示（ITO，PR，Cell gap... ..）

· 醫學，生物薄膜及材料領域等

· 油墨，礦物學，顏料，調色劑等

· 醫藥，中間設備

· 光學涂層，TiO2， SiO2， Ta2O5... ..

· 半導體化合物

· 在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜

· 非晶體，納米材料和結晶硅

· 太陽能電池工業

應用實例:

客戶遍布全球主要科研大學及主要半導體廠商：

NIST

ISMI

NASA

JPL

Marshall Space Center

Air Force

MIT

Columbia University

UC Berkeley

Georgia Tech

University of Virginia

USTC，China

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Bell Laboratories

HP

GE

Lockheed Martin

Corning

Applied Materials

First Solar

Dow Chemical

Samsung

Texas Instruments

National Semiconductor

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詳情關注：北京燕京電子有限公司