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Praying Mantis™高溫反應室對于具有高表面積的粉末特別有效。這使得漫反射成為研究異構催化、氣固相互作用、光化學反應和氧化機制的寶貴工具。此高溫反應室非常適合在嚴格控制的溫度和壓力下進行此類研究。高溫反應室應用允許在受控壓力和廣泛溫度下進行漫反射 (DRIFTS) 光譜測量。它與FT-IR和UV-VIS漫反射光譜的Praying Mantis配件一起使用，也可用于拉曼光譜。
設計用于使用 KBr 窗口的高真空(133 μPa 或 10-6 torr)到 133 kPa(1 ktorr)或帶 ZnSe 窗口的 1.5 MPa(11.3 ktorr)的操作。
溫度高達 910°C(真空下)。
易于適應操作高達 3.44MPa (25.8 ktorr) 與可選的高壓圓頂。
提供三個入口/出口口，用于疏散電池和引入氣體。
由耐化學腐蝕的316不銹鋼制成。
可選的 Silcotek/Restek 惰性涂層，具有更高的惰性和耐腐蝕性。
可選的冷卻盒，可使用冷水機組或再循環器進行適度冷卻或加熱。
適用于微光譜應用(包括拉曼)的替代窗口組件。
美國Harrick Praying Mantis反應室 HVC高溫反應室 CHC-CHA低溫反應室 HVC-MRA-5拉曼高溫反應室
美國Harrick Praying Mantis反應室主要應用：在壓力和溫度控制范圍內，允許漫反射測試，必須配套Praying Mantis漫反射附件
美國Harrick Praying Mantis反應室兩種模式可選：
1、高溫反應室(HVC)：操作壓力從真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作溫度可高達910℃ (在真空條件下)。可選配高壓穹頂加壓至3.44MPa(25.8 ktorr)。
2、低溫反應室(CHC-CHA)：操作壓力從真空(133μPa或10-6torr)到133kPa(1 ktorr)，操作溫度從-150℃至600℃ (在真空條件下)。
美國Harrick Praying Mantis反應室主要特點：
左右兩個進/出氣口，中間一個抽真空口
316不銹鋼耐化學腐蝕
反應室。
低壓加熱盒。
K型熱電偶。
樣品包裝工具和溢出托盤。
帶兩個 KBr 或 ZnSe 窗口和一個玻璃觀察窗口(FTIR 配置)的圓頂。
帶兩個 SiO2 窗口和一個玻璃觀察窗(UV-Vis-NIR 配置)的圓頂。
主要型號#
| MODEL NO. | NAME | |
|---|---|---|
| HVC-DRM-5 | Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber (FTIR， ZnSe) | |
| HVC-DRP-5 | Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber (FTIR， KBr) | |
| HVC-VUV-5 | Praying Mantis™ High Temp. Reaction Chamber (UV-Vis-NIR) |
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