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美Nano-master兆聲晶圓清洗機SWC-4000
產品特點：
SWC-4000兆聲晶圓清洗機：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復性、高均勻性及Z先進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了**的無損兆聲清洗、化學試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。
SWC-4000兆聲晶圓清洗機應用：
。帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片
。Ge， GaAs以及InP晶圓片清洗
。CMP處理后的晶圓片清洗
。晶圓框架上的切粒芯片清洗
。等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗
。帶保護膜的分劃版清洗
。掩模版空白部位或接觸部位清洗
。X射線及極紫外掩模版清洗
。光學鏡頭清洗
。ITO涂覆的顯示面板清洗
。兆聲輔助的剝離工藝
特點：
。支持12"直徑的圓片或9"x9"方片
。獨立系統
。無損兆聲，試劑，毛刷清洗及旋轉甩干
。微處理機自動控制
。化學試劑滴膠單元
。溶劑與酸分離排廢
。熱氮
。30"D x 26"W 的占地面積
選配項：
。掩模板或晶圓片夾具
。臭氧清洗
。PVA軟毛刷清洗
。高壓DI清洗
。氮氣離子發生器
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移動端
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