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一，產(chǎn)品設計原理：
在真空腔內(nèi)，利用一個加熱板升華底部的基質(zhì)，然后利用一個冷卻板將基質(zhì)沉積到樣品表面。所有這個過程發(fā)生在基質(zhì)的三相點以下，因此沒有涉及液態(tài)物質(zhì)，從而減少了移位效應。
二，產(chǎn)品技術(shù)優(yōu)勢：
可以設定時間控制升華步驟；大部分基質(zhì)都可以在180s內(nèi)完成升華過程；適用于DHB， CHCA， SA， DAN， AA， Norhamane等基質(zhì)；分辨率：升華能夠保證納米級的*小結(jié)晶尺寸；*小的移位效應：基質(zhì)噴涂過程中，跳過液態(tài)直接升華為氣態(tài)，樣品的更多空間信息被完整保留；高效：一次處理即可完成基質(zhì)沉積。
三，產(chǎn)品梗概：
快速、簡單、重復性好、移位效應小
暫無數(shù)據(jù)！
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