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介紹
AMS加速器質譜提供了高精度同位素組成,從克級樣品到半克級樣品, 通過直接的測量同位素比值。
傳統的閃爍計數法基于放射性衰變和從樣品中發射的β粒子的測量, 來提供同位素比例的濃度信息, 而AMS可以在同位素離子分離之后直接各個計數。 AMS超越閃爍計數法,在于AMS需要遠少的樣品量,并且提供了更高的樣品信號由于更高的計數速率。
精度和重復性
HVE加速器質譜*重要的特點是“藝術設計”的加速器陣列,其特點就是高度可靠性,突出的低噪音水文,高電壓穩定性,低端子電壓紋波。
HVE陣列配備一個電子的高壓電源,無運動部件。其結果是沒有振動,而振動可能會導致終端電壓波動。此外,紋波和穩定值和動態行為可提供多年的穩定操作,維護的壓力罐中的組件很少,如果需要的話。
AMS使得很多測量成為可能:當樣品不能夠被通過其他計數技術進行測量時,比如因為沒有足夠的樣品材料或樣品數量太高。
對在考古學中*初的應用是在考古學中測量14C , 現在測量眾多元素包括Al、Cl、Ca 和U同位素比。AMS技術被廣泛應用在應用地球物理,海洋環境和古氣候研究、水文、生物醫藥、生化反應動力學、材料研究、核不擴散的維護和監測,核和原子物理、核天體物理學和微量元素分析等領域。
靈敏度
AMS的**靈敏度不是常規質譜能夠得到的。AMS解決了干擾問題:源自于分子和分子離子同樣的質荷比,當同位素被檢測時。典型的*小濃度比,可以被AMS檢測到的在10-15
由于精確和重復性是AMS的關鍵問題,所以穩定性對于加速器質譜而言是非常重要的因素。
在實驗核物理環境中可以容忍的終端電壓瞬變在AMS中是**不可接受的,因為它可以破壞從可能不可替代的樣品中獲得的數據。
同樣,終端電壓的微小波動也會引起光束通過加速器的變化,從而降低結果的再現性。
單或多元素系統
這取決于HVE串列加速器質譜在應用上的兩個不同版本:
對應單一元素的專用系統,或者對應多元素的多元素系統。對應離子束技術的系統擴展性包括離子注入,RBS-C,PIXE,ERD 和 NRA都是一樣可以的。
固態以及氣態樣品
HVE串列AMS系統可以配置50(200可選)樣品濺射源,可以接受固體或者氣體(CO2)進樣,這里CO2可以通過地電壓導入,使得可以與GC或元素分析儀聯用。
HVE的混合AMS離子源的獨特特征是離子源本體接地電位。這樣非常有利于離子進入,避免了大型高壓保護籠的必要性,保證安全無輻射運行。
待分析的樣品通過樣品盤進入離子源內部,避免了樣品與樣品在濺射工藝會發生的交叉污染。真空泵直接坐落在附近的離子源體確保**的抽速,和在CO2樣本的低記憶效應。
離子源和樣品盤的氣動閥允許離子保持在延長壽命的溫度,避免樣品盤交換破壞真空。
以精確和可重復的方式橫向插入源頭,使得源維護容易且快速。
精確同位素通過加速器傳送的時間。
它消除了從相對穩定時間長的保鏢電壓產生的不確定性和允許更高的彈跳頻率,從而減少源故障從而優化精度的不利影響。
而同時注射是一種直流操作,順序注射循環通過其中幾個數量級之間的同位素強度差異通常與長期使用的放射性同位素的元素的同位素在AMS。這將導致加速器不同的束流加載,從而導致可能影響精度的小端電壓波動。
因此,同步注射是高精度AMS測量的**方法。然而,而同時注射hevier元素的儀器是不切實際的大型和昂貴的,順序注射可覆蓋整個元素周期表。
同時和順序進樣
兩個不同的進樣概念都可以進行: 同時進樣和順序進樣。
同時注入不同同位素,分離、分析、重組,同時注入加速器。HVE同時進樣器是基于**的四磁結構,固有的設計,確保重組相同的軌跡和參數設置的獨立性。
順序注射不同的同位素分析在HVE時間序列連續注射器注入加速器一個裝有光束消隱單元定義納秒。
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更為詳細的資料可下載儀器樣本。
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