XRD-Mill McCrone

XRD-Mill McCrone專為X射線衍射（XRD）分析的樣品制備而研發(fā)，主要應(yīng)用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)、材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及研發(fā)等。

XRD-Mill McCrone具有獨(dú)特的研磨方式：研磨塊的運(yùn)動(dòng)為線性撞擊和平面剪切兩種方式，所以研磨時(shí)間短，幾乎沒有樣品損失，得到特別窄的粒徑分布。

晶格在研磨過程中幾乎完全保留。

研磨容器是一個(gè)125 ml容量的聚丙烯罐，配一個(gè)無墊圈螺帽的聚乙烯蓋。研磨罐被48個(gè)有序排列的圓柱形研磨塊充滿，材質(zhì)有瑪瑙，氧化鋯和剛玉。**的磨時(shí)間是在3-30分鐘，典型的樣品體積是在2-4 ml之間。

應(yīng)用實(shí)例

borides， clay， mica， nitrides， slate， 建筑原料， 植物原料， 水泥， 玻璃， 礦物， 碳化物， 金屬， 陶瓷， 骨頭

優(yōu)點(diǎn)

研磨過程中晶格被保留。

粒徑分布窄。

幾乎沒有交叉污染。

緊湊、桌面型機(jī)型

可調(diào)研磨功率(4步)

適合于干磨和濕磨。

清洗方便。

免維護(hù)。

運(yùn)行安靜。

性能指標(biāo)

應(yīng)用搗磨、混和與研磨制樣；干磨或濕磨

應(yīng)用領(lǐng)域X-ray diffraction

樣品特征中硬性， 硬的， 脆性的， 含纖維的

**進(jìn)樣尺寸<0.5毫米

*終出料粒度 *< 1 μm

網(wǎng)頻50赫茲（60赫茲）下的轉(zhuǎn)速1，000 - 1，500 min-1 4步

研磨平臺(tái)數(shù) (可接納研磨罐數(shù))1

典型粉碎時(shí)間3 - 30 min

干磨是

濕磨是

低溫研磨-

研磨套件材料：瑪瑙， 氧化鋯， 金剛石

研磨罐尺寸125 ml

粉碎時(shí)間設(shè)定數(shù)字顯示，00:00:01 至 99:59:50

驅(qū)動(dòng)DC-Motor

驅(qū)動(dòng)功率50W

電源數(shù)據(jù)：220-240 V， 50/60 Hz

電源接頭：單相

防護(hù)類型IP 30

接受功率100W

機(jī)體尺寸（寬x高x縱深）205 x 155 x 520 mm

凈重~19 kg

標(biāo)準(zhǔn)CE

Please note:

受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響

作用原理

XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個(gè)圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排，每排6件。

在運(yùn)行過程中，罐子做圓周運(yùn)動(dòng)，研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平（通常小于10 um）。

由于研磨過程很溫和，所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備的**選擇。