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TF200薄膜厚度測量系統利用薄膜干涉光學原理，對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線。TF200根據反射回來的干涉光，用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm，可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜，還可以測量n和k值。
半導體（SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS，SOI等）
LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等)
LED (SiO2、光刻膠ITO等）
觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等)
汽車(防霧層、Hard Coating DLC等）
醫學（聚對二甲苯涂層球囊/導尿管壁厚藥膜等）
型號 | TF200-VIS | TF200-EXR | TF200-DUV | TF200-XNIR |
波長范圍 | 380-1050nm | 380-1700nm | 190-1100nm | 900-1700nm |
厚度范圍 | 50nm-40um | 50nm-300um | 1nm-30um | 10um-3mm |
準確度1 | 2nm | 2nm | 1nm | 10nm |
精度 | 0.2nm | 0.2nm | 0.2nm | 3nm |
入射角 | 90℃ | 90℃ | 90℃ | 90℃ |
樣品材料 | 透明或半透明 | 透明或半透明 | 透明或半透明 | 透明或半透明 |
測量模式 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 |
光斑尺寸2 | 2mm | 2mm | 2mm | 2mm |
是否能在線 | 是 | 是 | 是 | 是 |
掃描選擇 | XY可選 | XY可選 | XY可選 | XY可選 |
注：1.取決于材料0.4%或2nm之間取較大者。
2.可選微光斑附件。
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