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隨著成像技術的發展,在中心實驗室,越來越多的科研工作者們提出對超高分辨率成像的需求,為了應對不同應用對于分辨率、速度和圖像質量的多種需求,X-Light V2+VCS轉盤共聚焦可以在寬場熒光、共聚焦、寬場超高分辨率和視頻級共聚焦超高分辨率多種模式之間快速電動切換。在您可承受的預算之內,即可滿足超高分辨率成像的需求,同時配備各種自動化部件,高功率激光,大視場sCMOS相機,熱切換轉盤,任意轉換不同針孔大小或排列轉盤,雙模式的結構照明網格,整套系統工作穩定,易于維護易操作。
結構照明超高分辨率模塊隨時可升級
˙獨特的寬場超高分辨和視頻級共聚焦超高分辨率(VCS ) 模式
˙在寬場模式和共聚焦模式下都可以實現超高分辨率成像,通過電動的VCS格柵的移動可以快速切換。**的結構照明可以獲得橫向分辨率120nm的圖片。結構照明透過獨特針孔矩陣投影到樣品焦平面上,然后以壓電馬達快速全像素點掃描,對每個像素點隨之產生的光強度變化收集數據。檢測方法利用非線性計算,收集和探測頂部的強照明的函數以及位置參數,更多的采用頂部原始強信號的位置而不是外圍弱光的位置,產生**的高對比度。對焦信息對于大多數弱光的位置未被VCS照明模式膜距陣照亮,從而產生更激烈的傾斜光亮度直方圖,實現超分辨率信號。
**圖像質量保障,沒有樣品處理及熒光染料限制,快速超高分辨率采圖
˙獨特的結構照明技術可以應用于所有熒光染色樣本,在樣本制備和熒光染料選擇上無特殊要求,對顯微鏡浸油和樣本的封片/浸潤介質的折射率匹配不敏感,可長時間觀察,每個獲取圖像只是局部照明避免熒光漂白,*終采圖只需激發光曝光整個視野僅僅一次,無懼光漂白,可以輕松的從共聚焦成像切換到多色超高分辨率成像,針對可見光全光譜的無像差光學校正系統保證您獲得*真實的圖像
˙沒有圖像缺陷,圖像超高質量保證,效果明顯,保證產出和****
˙不會浪費珍貴樣品,也沒有浪費珍貴人力在困難的樣品制備中,但到頭來不能獲得良好的圖像質量和實驗結果
˙高清晰度圖像豐富細節找到你須要的所有信息使用在發表文章和演示,準確結構共定位判定
˙高質量的圖像發表高水平論文
˙快速獲得結果,所以速度更快發表論文
控制軟件 | MetaMorph, NIS Elements |
VCS | 搭配X-Light V2 使用,可后期升級 |
VCS 針孔 | 兩種模式: 13微米方形孔徑 - 78 微米步進;13微米狹縫-78微米步進;壓電馬達速度結構照明掃描 |
電動針孔聚焦,穩定的XY軸校準 | |
VCS 分辨率 | 橫向120nm ,縱向300nm ; 精準的多波長色差校正,適應多色成像 |
支持的顯微鏡 | 配備100% C接口的各品牌正置和倒置顯微鏡 |
需要平場復消色差物鏡 | |
相機 | 支持C接口的高靈敏度sCMOS和EMCCD |
內置光學完成相機聚焦, 無需移動相機或轉盤 | |
顯卡要求 | GPU顯卡/CUDA規格: 5.0/5.2版本& GPU顯存: 4 GB或以上 |
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