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原理：
等離子體等離子體分析飛行時間質譜儀是一個全新的儀器，它結合了GD等離子體的濺射速度和飛行時間質譜的靈敏度，實現了高分辨率和高靈敏度條件下固體材料的快速化學深度剖析。
重點應用領域：
摻雜分析（半導體、光電子、太陽能光伏、傳感器、固態光源）
表面和整體污染鑒定（PVD鍍層、摩擦層、）
腐蝕科學和技術（示蹤物、標記監測、同位素分析）
界面監測
參數：
采集速率：每30μs一張全質譜
質量分辨率：選擇高分辨率模式時，在m/z208可達5000
動態范圍：107
質量準確度40ppm
靈敏度:103cps/ppm
深度分辨率：nm
正負離子模式
4個離子的靈活消隱功能
簡單易用的水平樣品裝載
產品特點：
樣品分析快速無預處理：無需超高壓腔
適用于各種材料及鍍層分析
全質量覆蓋：可提供從H到U元素的完整質譜和分子信息，包括同位素監測
獨有3D數據 ，脈沖射頻模式(**)
高深度分辨率：測試薄層可至1nm到厚層：厚層可達100μm
無需校準的半定量分析：濺射和電離過程分離，使得基體效應*小化
原理圖：
應用實例：
富含O18氧化鉭的同位素分析
Si PV的雜質識別
Si中B的定量摻雜
InGaN中Mg的定量分析
暫無數據！
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