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New ClippIR+ AnalyzeIT濕法過程分析儀

ABB用于半導體工業(yè)中濕法過程在線、實時監(jiān)測和控制的解決方案

在半導體制造業(yè)中，對濕法化學過程進行連續(xù)監(jiān)測可以提高產(chǎn)量，降低故障率，使生產(chǎn)利潤**化

在半導體制造業(yè)中，為了提高企業(yè)的生產(chǎn)能力和產(chǎn)品質(zhì)量，降低生產(chǎn)成本，需要對相關(guān)的濕法過程進行精確的控制。ABB公司的濕法過程分析儀（WPA）可以對各種刻蝕液、清洗液和去光膠液的化學濃度進行連續(xù)的在線監(jiān)測，并為實時過程控制提供了必要的信息。

采用實時過程監(jiān)測，企業(yè)能從化學制品有效期的延長、消耗與浪費的減少以及實驗室測量工作的減輕等方面提高成本效益。實踐表明，將SC1、SC2等清洗液的使用壽命延長25%到30%，WPA的投資成本一般可以在一年內(nèi)收回。對于一些通用的有機化學試劑，它的成本回收期大約只有6個月左右。

WPA具有許多獨特的技術(shù)優(yōu)勢，它能夠?qū)穹ㄟ^程中使用的30多種不同的溶液（見下頁的列表）進行監(jiān)測。另外，ABB公司還可以根據(jù)客戶的具體要求定制專門的標準曲線。

WPA系統(tǒng)中包含的FTSW100過程控制軟件，可以實現(xiàn)分析儀與濕法過程的完全集成。除了能夠顯示在過程流中監(jiān)測到的各種化學成分的濃度值及其變化趨勢外，該軟件還有自動數(shù)據(jù)存儲功能，當某些數(shù)值超出了許可范圍時，該軟件還會發(fā)出警告或報警。當清洗液成分不符合要求時，軟件會報警通知操作人員，同時使設(shè)備自動阻擋清洗液的流入。

非接觸式紅外檢測

WPA主機為傅立葉變換近紅外光譜儀（FT-NIR），這種光譜儀通過光纖連接到名為ClippIR+的Teflon**檢測池。一次*多可以使用8個ClippIR+來同時監(jiān)測各種化學溶液。ClippIR+的創(chuàng)新設(shè)計可以使其能夠很容易地固定在現(xiàn)有管道的外表面上。穿過ClippIR+的紅外光使系統(tǒng)可以直接監(jiān)測管道內(nèi)的化學物濃度，而不會造成任何污染。

ClippIR+專為半導體應用而設(shè)計，能夠安裝在任何尺寸的Teflon管上。由于它體積小，因此可以安裝在很小的化學箱體之上，或者安裝在濕法設(shè)備的其它任何部件之內(nèi)。另外，它還具有抵抗化學腐蝕的能力，可以在強腐蝕性環(huán)境中使用。

FTPA-2000系列光譜儀可以在惡劣的工業(yè)條件下使用，它具有很小的外形尺寸（43×41×18厘米），可以安裝在離ClippIR+遠達100米處。它既可以在潔凈室外作為一個獨立的裝置單獨使用，也可以集成在整個過程分析儀系統(tǒng)中使用。

FTSW100過程控制軟件中的測量屏幕將顯示各種成份的濃度值與變化趨勢：

Teflon檢測池 新型**產(chǎn)品ClippIR+具有抗污染和抗化學腐蝕性能，并且不需要中斷生產(chǎn)就可以在生產(chǎn)流路中快速安裝。

多路分析 1臺WPA能夠監(jiān)測多達8種不同的過程流，對每個流路可以分析其4種配方（*多可達32個參數(shù)）。

紅外（IR）分析 半導體紅外分析避免了在過程流中循環(huán)的溶解金屬或其它顆粒物所造成的干擾。

插入式測量 不需要引出過程支流，可通過光纖傳輸?shù)募t外線對管道中的過程流直接進行測量。

遠程監(jiān)測 WPA可以設(shè)置在離測量點（ClippIR+）遠達100米處，如果必要，還可以將其放在室外。

特點 可對濕法化學過程進行精確的、實時的在線監(jiān)測；

非接觸式測量；

快速測量 （＜1分鐘，多種通訊協(xié)議）；

多過程流分析（*多可達8個流路）；

多組分分析（每個流路*多可達4種配方）；

通過光纜實現(xiàn)遠程監(jiān)測，外形尺寸小；

極高的穩(wěn)定性與可靠性；

不需要使用試劑；

全球化的售后服務與技術(shù)支持。

優(yōu)勢

由于延長了清洗液使用壽命，減少了化學品消耗量，并且無離線實驗室分析所需要的停工期，因此節(jié)約了生產(chǎn)費用；

無化學品損耗，無污染，安裝時無需停工；

能夠?qū)崿F(xiàn)實時過程控制；

每條過程流分析成本低；

增強了在技術(shù)要求很嚴格的場合的過程分析性能，減少了晶片清洗的次數(shù)；

靈活的安裝選擇；

無漂移，僅需少量維護；

交鑰匙系統(tǒng)；

迅速的服務響應。

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