非金屬電熱元件：
其他金屬電熱元件：
其他燒結氣氛：
其他溫控精度：
-最高溫度：
-額定溫度：
-看了立式爐的用戶又看了
留言詢價
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
立式爐主要適用于6"、8"、12"晶圓的氧化、合金、退火等工藝。
氧化是在中高溫下通入特定氣體（O2/H2/DCE），在硅片表面發(fā)生氧化反應，生成二氧化硅薄膜的一種工藝。生成的二氧化硅薄膜可以作為集成電路器件前道的緩沖介質層和柵氧化層等。
退火是在中低溫條件下，通入惰性氣體（N2），消除硅片界面處晶格缺陷和晶格損傷，優(yōu)化硅片界面質量的一種工藝。
應用領域：
用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領域。
暫無數據！
立式爐的工作原理介紹？立式爐的使用方法？立式爐多少錢一臺？立式爐使用的注意事項立式爐的說明書有嗎？立式爐的操作規(guī)程有嗎？立式爐的報價含票含運費嗎？立式爐有現(xiàn)貨嗎？立式爐包安裝嗎？
手機版：
工商已核實
