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ZEISS Xradia 520 Versa X射線顯微鏡
ZEISS Xradia 520 Versa X射線顯微鏡

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產(chǎn)地

德國

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卡爾蔡司(上海)管理有限公司.

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蔡司Xradia高分辨率三維X射線顯微鏡是**一代處于領導地位的三維X射線顯微鏡(XRM)解決方案,為無損微米成像而優(yōu)化。本設備提供****的亞微米分辨率,即便是對大樣品也是如此。

Xradia高分辨率三維X射線顯微鏡超越microCT的性能,擁有物鏡轉(zhuǎn)臺,能提供變化的放大倍率。這使得用戶能夠通過選擇物鏡或改變幾何放大率來選取系統(tǒng)放大倍率。而傳統(tǒng)的microCT和所謂的”nanoCT”系統(tǒng)僅局限于幾何放大倍率。Xradia高分辨率三維X射線顯微鏡能夠?qū)軐挸叽绶秶臉悠泛痛蠊ぷ骶嚯x的樣品控制分辨率和相對襯度,支持不同領域的應用。在半導體封裝領域,可提供半導體工藝優(yōu)化與失效分析,對未啟封的封裝樣品進行無損亞微米成像和缺陷定位與表征。

技術參數(shù):

樣品尺寸極限………………………………………300mm

樣品臺:

承重能力……………………………………………15kg

X方向移動范圍……………………………………45mm

Y方向移動范圍……………………………………100mm

Z方向移動范圍……………………………………50mm

旋轉(zhuǎn)…………………………………………………360°

主要特點:

◆對大/小樣品進行高分辨率三維X射線成像;

◆顯微鏡設計使樣品距離X射線源有**工作距離情況下具有高分辨率,這是進行原位成像惡化大樣品成像的先決條件;

◆對同一個樣品進行多尺度范圍成像,跨越很寬的放大倍率,*小達<0.7um的實際空間分辨率;

◆對低原子序數(shù)材料和生物樣品進行高襯度的相位增強成像;

◆對樣品進行無損成像,僅需簡單甚至無需樣品制備;

◆提供各種原位輔助裝置,對實際大小的樣品(從毫米到數(shù)厘米)進行亞微米成像,承重可達15kg;

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