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單層二硫化鉬大納米片分散液-MoS2 鋰插層法品牌
上海研倍產地
上海樣本
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產品技術參數:
產品名稱 | 單層二硫化鉬大納米片分散液-MoS2 鋰插層法 |
貨號 | RDB-FSY-001 |
參數 | 片徑:0.2-5 um 厚度:~lnm 單層率:> 90wt% |
性質 | 拓撲絕緣體 |
應用 | 電化學能儲,電化學催化,器件,生物學研究等應用 |
產品規格:
固體含量100mg-1mg/ml-100
固體含量200mg-1mg/ml-200
固體含量500mg-1mg/ml-500
固體含量100mg-1mg/ml-100ml-乙醇
固體含量200mg-1mg/ml-200m1-乙醇
固體含量500mg-1mg/ml-500ml-乙醇
固體含量100mg-1mg/ml-100mI-NMP
固體含量200mg-1mg/ml-200mI-NMP
固體含量500mg-1mg/ml-500mI-NMP
固體含量100mg-1mg/ml-100ml-IPA
固體含量200mg-1mg/ml-200ml-IPA
固體含量500mg-1mg/ml-500ml-IPA
固體含量100mg-1mg/ml-100mI-DMF
固體含量200mg-1mg/ml-200mI-DMF
固體含量500mg-1mg/ml-500mI-DMF
固體含量100mg-1mg/ml-100mI-DMSO
固體含量200mg-1mg/ml-200mI-DMSO
固體含量500mg-1mg/ml-500mI-DMSO
單層二硫化鉬大納米片分散液-MoS2 鋰插層法照片:
SEM:
XRD: TEM:
AFM: 納米片真空抽濾薄膜::
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