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1、產品信息
貨號 | 厚度 | 純度（%） | 形貌 | 顏色 |
RDB-BC-Al | 可定制 | 99.9 | 靶材 | 銀白色或者灰色 |
2、產品規格
定制
3、產品概述
鋁靶材通常用于物理蒸發沉積和磁控濺射等薄膜沉積工藝，主要應用于制備光學薄膜、金屬薄膜、半導體器件和其他高科技領域的產品。由于鋁具有良好的導熱性和導電性，因此在這些領域中得到廣泛應用。例如，鋁靶材可用于制備反射鏡、透鏡、光學濾波器、半導體器件等。此外，鋁靶材還可用于制備太陽能電池、顯示器件、電子器件和其他高端工業產品。
4、產品用途
高純度：鋁靶材通常具有高純度，能夠滿足各種工藝對材料純度的要求。
工藝適用性：鋁靶材可用于不同的薄膜沉積工藝，包括物理蒸發沉積和磁控濺射等。
應用領域：鋁靶材在半導體制造、光學涂層、薄膜材料等領域有廣泛的應用。
性能優異：鋁靶材具有輕質、良好的導熱性和耐腐蝕性，能夠滿足高端產品對材料性能的要求。
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