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第二代碳化硅晶片腐蝕清洗設備品牌
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設備采用雙工位設計，全封閉工作臺和強排風系統有效防止腐蝕性堿蒸汽對操作人員的身體傷害。該系統集SiC晶片熱強堿腐蝕、快速清洗，再次超聲清洗和晶片烘干為一體，充分避免了操作人員與腐蝕性強堿溶劑的接觸。整個工藝流程全部自動化控制，操作人員只需完成取放片操作，腐蝕效率高，適合產業化應用。
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