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RDB-PGY-CeO2品牌
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上海研倍新材料 專業生產納米粉末 氧化鈰拋光液 CeO2 納米材料
1、產品信息
貨號 | 純度 | 規格 | 形貌 | 備注 |
RDB-PGY-CeO2 | 30% | 20-30nm | 不規則 | 水性，陰離子 |
2、產品規格
1、樣品測試包裝客戶指定（＜1kg/袋裝）
2、樣品產品包裝（1kg/袋裝）
3、常規產品包裝（1kg/2kg/5kg/10kg）
備注：內：充惰性氣體 外：鋁箔袋真空。可根據客戶要求指定包裝。
3、產品概述
產品通過“選用凈化原料+生產純化工藝+品控智能控制”制備生成，產品具有技術含量高、晶相純、磁性異物少、含水量低、化學性能穩定的特點。
4、產品用途
半導體制造:
硅片拋光:這是氧化鈰拋光液*主要的應用領域。在集成電路制造過程中，需要對硅片進行平坦化處理，以保證后續工藝的順利進行。氧化鈰拋光液可以有效去除硅片表面的微觀缺陷和粗糙度，獲得原子級平整的表面。
金屬層拋光:在多層金屬互連結構中，氧化鈰拋光液也可以用于拋光銅、鋁等金屬層，以保證金屬層的平整度和線寬精度。
介質層拋光:氧化鈰拋光液可以用于拋光各種介質層，例如二氧化硅、氮化硅等，以保證器件的性能和可靠性。
光學元件拋光:
玻璃拋光:氧化鈰拋光液可以用于拋光各種光學玻璃，例如熔融石英、硼硅酸鹽玻璃等，以提高光學元件的表面質量，減少光散射和提高光學透過率。
晶體拋光:氧化鈰拋光液也可以用于拋光各種光學晶體，例如藍寶石、YAG等，以提高其表面質量和光學性能。
精密制造:
精密陶瓷拋光:氧化鈰拋光液可以用于拋光精密陶瓷部件，以提高其表面質量和尺寸精度。
金屬部件拋光:除了半導體制造中的金屬層拋光外，氧化鈰拋光液也可以用于拋光其他金屬部件，以提高其表面光潔度和耐腐蝕性。
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