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WITec公司的alpha300 A原子力顯微鏡基于研究級光學顯微鏡而設計，

是一款可靠、高端的納米成像系統，同時具有優異的光學接入、

簡易懸臂定位與原子級高分辨率。采用高精度陶瓷掃描臺及樣品臺掃描方式，

AFM探針獲得樣品表面形貌圖像。

該AFM采用光學顯微鏡配備高端相機，有助于高分辨率的樣品挑選與測量。

同時觀測樣品與AFM探針非常有利于樣品定位及掃描區域調整。

光學顯微鏡可實現更多的照明及檢測方式，如明暗場，偏光分析及寬場熒光等， 

用戶可以進一步挑選感興趣的樣品區域。用戶只需旋轉物鏡轉盤，

就可以在AFM與光學顯微鏡之間輕松切換，依舊保留光學顯微鏡與AFM性能。

關鍵特性

納米尺度的表面表征

橫向分辨率：低至1 nm

深度分辨率：< 0.3 nm

包含多種AFM模式

在空氣與液體中均可使用

獨特的懸臂技術，方便的懸臂交換和對準

精確的TrueScan?控制掃描臺：

可選擇的掃描范圍30 x 30 x 20μm3;100 x 100 x 20μm3;或200 x 200 x 20μm3

非破壞性的成像技術

共焦拉曼成像和近場 (SNOM)可在一臺顯微鏡上進行升級

AFM模式

接觸模式

樣品掃描時域探針直接接觸，通過懸臂梁的傾斜及角度來記錄表面形貌

AC（TappingTM 輕敲）模式（又稱間歇接觸模式）

抬高模式（Lift ModeTM）

數字脈沖力模式（DPFM）

磁力顯微鏡（MFM）

測量樣品上磁場的一種非接觸模式

靜電力顯微鏡

測量靜電力顯微鏡的一種非接觸模式

記錄并描繪間歇（輕敲）

模式中的相位偏移信號

納米操縱/壓印

開爾文探針顯微鏡

表面勢測量

橫向力顯微鏡（LFM）

揭示表面摩擦特性的一種接觸模式

化學力顯微鏡（CFM）

測量范德華力等化學相互作用的接觸或間歇模式

其他模式可選