參考價格
10-20萬元型號
CMSD2000/ 04品牌
IKN產地
德國樣本
暫無主軸轉速：
14000切割片尺寸：
55mm空氣耗量（L/min）：
2空氣壓力（kpa）：
10粉碎程度：
超細粉碎單位能耗：
--產量：
100裝機功率（kw）：
4成品細度：
鈉米級入料粒度（mm）：
10mm以下工作原理：
自磨磨拋盤直徑：
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IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產高速研磨機/高速膠體磨改進式/催化劑研磨/炭黑研磨/貴金屬材料研磨 高剪切膠體磨
催化劑漿料制備關鍵點：
穩定均一：①減少尾端顆粒的數量②粒徑分布窄
分散性好：減少鉑炭催化劑大粒子的團聚
在漿料生產過程中，常見的問題包括：
1.提高催化劑活性
減小催化劑顆粒尺寸可以有效提升其活性，但未分散的顆粒容易形成大團聚物，導致顆粒尺寸增大、比表面積減小，從而降低催化活性。適當的分散有助于提高催化劑活性，進而影響膜電極組件（MEA）的性能.
2.提高催化劑的穩定性和均一性
燃料電池中使用的鉑炭催化劑要求鉑納米顆粒的粒徑在3-5納米之間，粒徑分布窄，且在炭上均勻分散，不含有害雜質（如氯）。由于3-5納米鉑納米顆粒的表面能較大，容易發生團聚，因此制備出滿足這些條件的鉑碳催化劑工藝難度較高，這也是目前主要依賴進口的原因之一.
3.減少催化劑用量和提高利用率
催化劑層（CL）一直面臨著陰極氧還原反應（ORR）反應動力學緩慢以及質量傳輸過電位過高的問題，其中一個主要原因是CL上催化劑團聚體中離聚物對鉑（Pt）的覆蓋。離聚物覆蓋在Pt表面會減少催化活性位點，導致ORR活性損失，而Pt表面高密度過厚的離聚物層則會導致質量傳輸過電位增加。這些問題都與CL上團聚體的結構密切相關。均一分散的催化劑漿料可以與涂覆工藝相結合，盡量使涂覆層更薄，從而提高催化劑的利用率.
4.連續性生產（穩定性）
分散的鉑炭催化劑會隨著時間推移發生再聚集，因此分散好的漿料需要盡快進行下一工序以形成催化基層。連續分散過程可以與催化劑漿料的涂布過程同步進行，允許在分散后立即使用催化劑漿料進行連續生產催化劑層。雖然在實際生產中，連續生產可以解決部分問題，但體系穩定的漿料可以顯著降低工藝難度。
有很多應用中，200-600目的顆粒度是不夠的，需要達到1-2微米甚至更小，常用的研磨設備以及研磨方式已經難以滿足此技術要求。上海依肯在傳統膠體磨與均質機的基礎上，研發出了二者相結合的研磨分散機，其磨頭結構采用錯齒形，自上而下齒槽深度由深到淺，定轉子部分間隙理論上能夠實現無限接近，再配合15000RPM的超高轉速，當顆粒進入磨頭腔體之后，瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來后進入分散盤腔內，根據物料的特性及處理量的要求，上海依肯提供2G，4M，6F，8SF不同規格的斜齒，對磨細的顆粒進行二次剪切和分散，防止顆粒抱團。
IKN模塊化設計的主要特點如下：
-直立式腔體結構，物料可以全部進入分散腔；
-無死角；
-良好的表面處理；
-符合CIP/SIP的清洗要求；
-低噪音；
-所有接觸物料的材質均為SS316；
-小試、中試到量產，平穩過渡；
-僅需簡單的更換功能模塊，即可滿足分散-懸浮-均質-乳化的不同要求；
-衛生設計，適合食品及制藥行業；
-可提供特殊材質滿足磨損性及腐蝕性產品處理要求。
研磨分散機參數選型表
表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到大允許量的10%
技術及價格請來電:本公司有樣機可供客戶購前實驗，歡迎廣大客戶來我司參觀指導!
IKN鉑碳催化劑研磨漿料生產高速研磨機/高速膠體磨改進式/催化劑研磨/炭黑研磨/貴金屬材料研磨 高剪切膠體磨
結合錐形刀頭與平面刀頭 提高研磨與分散效果
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