參考價格
100-150萬元型號
高比表氫氧化鈣設備品牌
產地
桂林樣本
暫無粉碎程度：
超細粉碎單位能耗：
詳情見桂礦說明書產量：
10-40t/h裝機功率（kw）：
125/202/242成品細度：
80-325目入料粒度（mm）：
最大35mm工作原理：
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高比表面積氫氧化鈣的制備方法
制備高比表面積氫氧化鈣的方法有多種，其中較為常用的有以下幾種：
1. 化學沉淀法
化學沉淀法是制備高比表面積氫氧化鈣*常用的方法之一。該方法以鈣鹽溶液為原料，通過控制反應條件（如溫度、濃度、pH值等），使鈣離子與氫氧根離子發(fā)生反應生成氫氧化鈣，再經過濾、洗滌、干燥等步驟得到產品。化學沉淀法具有工藝簡單、成本低廉等優(yōu)點，但產品比表面積和純度相對較低。
2. 微乳液法
微乳液法是一種制備高純度高比表面積氫氧化鈣的方法。該方法以鈣鹽溶液和堿溶液為原料，在表面活性劑的作用下形成微乳液，使鈣離子與氫氧根離子反應生成氫氧化鈣。微乳液法可以得到比表面積較大、粒徑分布較窄的產品，但工藝復雜、成本較高。
3. 模板法
模板法是一種制備具有特定結構和性能的納米材料的方法。該方法以特定的模板為載體，通過在模板中引入鈣離子和堿離子，使它們發(fā)生反應生成氫氧化鈣。模板法可以得到具有特定結構和形貌的產品，但工藝復雜、成本較高。
暫無數據！
2025-03-15
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