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一、稀土拋光粉，選Fe2O3還是CeO2？
人們最先使用的是 Fe2O3拋光粉，但是其拋光速度慢，鐵銹也導入了污染無法去除。
1933 年，稀土氧化物首次在歐洲被用作玻璃拋光材料，許多科研工作者多方面研究了稀土拋光粉的拋光質量和拋光速率。因為鈰基稀土拋光粉具有環保、高效的優點，人們放棄了之前的氧化鐵拋光粉。
二、稀土拋光粉的“個人”簡介
1. 它是誰？
稀土拋光粉是指一種以氧化鈰為主體成分用于提高制品或零件表面光潔度的混合輕稀土氧化物的粉末。通常以氟碳鈰礦精礦或可溶性稀土鹽類為原料，經化學法處理、灼燒、粉碎、篩分等過程制成。
稀土拋光材料具有粒度均勻、硬度適中、拋光效率高、使用壽命長、拋光質量好、清潔環保等優點，具有優異的拋光效果，也被譽為“拋光粉之王”。
來源：山東鑫方園新材料科技有限公司官網
2. 它在哪兒——產業鏈
稀土拋光粉行業產業鏈上游原材料為稀土，目前我國稀土拋光材料的市場份額占拋光材料市場 85%以上，近些年，為保護和合理開發優勢礦產資源，相關部門多次對部分礦種進行保護性和限制性開發，稀土礦、鎢礦等都曾是我國特定礦種，實行開采總量控制，由于資源的有限性，我國稀土拋光粉行業面臨較大的上游行業風險。稀土拋光粉行業下游主要是光學玻璃、蓋板玻璃、電子元器件、智能手機等行業。
來源：智研咨詢，中國粉體網整理
3. 它的樣子——分類
當前市場上流行的拋光粉，根據其含 CeO2的多少可以分成三類。
第一類是含有40%-70%稀土氧化物的低鈰拋光粉，二氧化鈰的含量大約為30%-65%。
第二類是含有80%-90%稀土氧化物的中鈰拋光粉，二氧化鈰的含量大約為40%-80%。
第三類是含有90%以上稀土氧化物的高鈰拋光粉，二氧化鈰含量大于80%，具
有粉體大小均勻，純度高，拋光時間較長的優點，使用高鈰拋光粉拋光的玻璃無污染、表面均一，常應用于半導體元件、光學鏡頭、精密光學儀器等元件的拋光。
來源：包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司官網
4. 它有何用——應用
稀土氧化物應用于玻璃行業的拋光由來已久，其極高的拋光效率以及優異的拋光效果使之成為該行業拋光的最優之選。特別是在精密光學儀器的拋光方面，稀土拋光粉的拋光效率高、拋光效果好、操作環境清潔、污染小，這些優點使其在精密光學儀器的拋光上有了“拋光粉之王”的美譽。
曲面顯示用蓋板玻璃 來源：四川旭虹光電科技有限紅四官網
將聚合物/無機物粒子包覆形成復合材料磨粒也是近些年稀土拋光粉的重要應用。此外，鈰基稀土拋光粉在解決大尺寸硅片高表面平整度、高光滑度與高潔凈度這三個問題方面起到了關鍵作用。
超薄拋光硅片 來源：中硅半導體(揚州)有限公司官網
三、稀土拋光粉的現在與未來
1. 產業現狀
20世紀30年代，歐美首先進行了研究開發，利用稀土氧化物用作拋光粉來拋光玻璃。目前世界的稀土拋光粉生產商，大多集中在中國、日本、美國、法國、英國、韓國等國家。相比于其它國家，日本具有較強的優勢，不但產量規模很大，同時也在全球客戶中取得了主要的市場占有率。
20世紀60年代開始，中國就開始大量生產稀土拋光粉，主要以混合稀土拋光粉、石膏石和純氧化鈰等為原料。到了 20 世紀 70 年代，稀土拋光粉已經代替了常規的氧化鐵，用于玻璃打磨。20世紀90年代，中國稀土拋光粉材料的制備、應用以及生產技術方面都獲得了長足的發展。稀土拋光材料領域出現了從傳統玻璃表面加工到光電子顯示產品的新發展，從傳統應用到光電高科技應用的改進。在產量方面，國內稀土拋光材料的應用從20世紀80年代的不到40噸增加到2018年的3萬噸左右。2022 年，我國稀土拋光材料產量達到 3.73 萬噸，居世界第一。
來源：胡珊珊等，稀土拋光粉產業發展現狀與前景，中國粉體網整理
2. 國內企業發展情況
國內稀土拋光粉生產商主要有凱盛科技、北方稀土、麥豐新材、廣州新稀、昊銳稀土、華明高納、鑫方園、佳鑫納米、榮瑞達、國瑞升等。其中凱盛科技是世界500強中國建材集團以玻璃新材料為核心的科技創新產業平臺。北方稀土是我國最早建立并發展壯大的國有控股稀土企業，實現了稀土上中下游一體化發展，構筑了行業領先的全產業鏈競爭優勢。麥豐新材主營業務為稀土拋光粉及拋光液，二氧化硅拋光液，氧化鋁拋光粉及拋光液，氧化鋯拋光粉及拋光液，稀土納米材料的研發、生產、銷售。
來源：智研咨詢
3. 現存問題
（1）目前中低端的稀土拋光粉已經無法適應國內外市場的需要。對于少數高檔稀土拋光粉的應用來說，在半導體集成電路淺槽離技術 (STI)方面，與外國相比具有一定的工藝差距。在關鍵部件的拋光中，主要依賴于進口。
（2）稀土拋光粉的發展趨勢呈現兩極分化態勢。目前，中國的稀土及拋光粉行業發展不平衡，中小企業數量眾多，大型企業少。在國際市場上很難擁有競爭優勢。而這些中小企業產品同質化嚴重，導致競爭激烈、利潤較低。然而，少數大型企業仍繼續提高創新能力，優化生產流程，提高產品質量，并致力于服務高端領域，從而產生了兩極差異化。
（3）目前，新型稀土拋光材料的研究進展相對緩慢，稀土材料拋光粉的技術問題主要表現為：生產工藝落后、粒徑控制技術不成熟、大顆粒及雜質難以消除、晶型控制不完全、高端稀土拋光材料產業化生產的穩定性差。
4.未來發展
隨著我國的光電信息產業的高速發展，稀土拋光粉的使用領域也在不斷改變，由傳統的電視顯像管用玻殼拋光等普通拋光，到了液晶顯示等更精確的電子光學設備用高性能拋光。
基于趨勢的研究，液晶顯示等中高端的電子光學設備生產工藝也是當前稀土拋光粉的主要應用研究熱點。日本昭和已經實現電氣裝置、半導體器件拋光、電腦驅動件拋光、玻璃基拋光、PC 及液晶拋光等的先進技術，體現出了拋光粉材料在未來的發展趨勢。
高檔拋光粉的高附加值、經濟效益強大，在我國高新科技領域中顯示出重要地位，具有廣闊的應用前景。
參考來源：
[1] 董碩，稀土拋光粉廢料回收過程研究
[2] 中國粉體網、包頭科協、稀土信息、智研咨詢
[3] 山東鑫方園新材料科技有限公司
[4] 包頭天驕清美稀土拋光粉有限公司官網
[5] 四川旭虹光電科技有限紅四官網
[6] 馬翔宇等，拋光壓力和拋光墊硬度對PMMA-CeO2核殼復合磨粒拋光性能的影響
[7] 李啟厚等，超細粉體材料表面包覆技術的研究現狀
[8] 賈慧靈等，一種微波條件下氟化二氧化鈰拋光粉的制備方法
[9] 中硅半導體(揚州)有限公司官網
[10] 胡珊珊等，稀土拋光粉產業發展現狀與前景
[11] Wanying Wang et al. Composite particles with dendritic mesoporous-silica cores and nano-sized CeO2 shells and their application to abrasives in chemical mechanical polishing.
（中國粉體網編輯整理/山林）
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