中國粉體網訊  近日，國家知識產權局信息顯示，湖南皓志科技股份有限公司取得一項名為“一種碳化硅晶圓拋光用的球形納米氧化鋁拋光液”的專利，拋光液移除速率高、懸浮分散性能好。

化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術具有獨特的化學和機械相結合的效應，是在機械拋光的基礎上，根據所要拋光的表面，加入相應的化學試劑，從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果。化學機械拋光液的性能是影響化學機械拋光質量和拋光效率的關鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡合劑、表面活性劑、磨料、pH調節劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會產生很大的影響。

目前市場上使用最為廣泛的幾種磨料是SiO₂、CeO₂、Al₂O₃。其中Al₂O₃憑借其硬度高、穩定性好等優點，廣泛應用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術中。Al₂O₃具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al₂O₃作為拋光磨粒。

但是，Al₂O₃磨粒在水溶液中由于靜電力等作用容易團聚成大顆粒膠團，出現絮凝分層等現象，導致拋光液穩定性較差。

來源：皓志科技官網

湖南皓志科技股份有限公司是一家集研發、生產、銷售于一體的高新技術企業。公司專注于拋光材料，鍍膜材料和調光產品三大系列產品。其中拋光粉產品主要應用于液晶玻璃基板，手機蓋板，盤基片，精密光學玻璃等領域；研磨液、拋光液產品主要應用于半導體硅片、藍寶石襯底片、窗口片、高檔五金、手機外殼等領域；納米銀線系列產品應用于觸控面板、柔性顯示、薄膜太陽能電池等領域；調光系列產品應用于行政辦公場所、酒店、醫療機構、銀行、商場以及高檔住宅、別墅等領域。

來源：皓志科技官網

皓志科技本次發明公開的一種碳化硅晶圓拋光用的球形納米氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術領域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5‑55、氧化劑0.05‑25、抑制劑0.1‑10、表面活性劑0.01‑12、分散劑0.01‑15、pH調節劑0.1‑10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預處理；③混合；④pH值調節；⑤高壓均質。

此次發明的球形納米氧化鋁拋光液具有移除速率高、懸浮分散性能好、對碳化硅晶圓表面無損傷、且表面粗糙度值極低、循環使用壽命長、易清洗、通用性好等特點，適用于半導體碳化硅晶圓的CMP拋光。

參考來源：

[1] 孟凡寧等，化學機械拋光液的研究進展

[2] 國家知識產權局、皓志科技官網、中國粉體網

（中國粉體網編輯整理/山林）

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