中國(guó)粉體網(wǎng)訊  隨著制造領(lǐng)域技術(shù)的交叉和融合，化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)已經(jīng)應(yīng)用到各種難加工和需要獲得高精度表面的材料拋光領(lǐng)域。由于器件特征尺寸的要求越來(lái)越嚴(yán)格，CMP中拋光墊在改變亞納米級(jí)缺陷性能中起著重要作用。CMP借助磨損中“軟磨硬”的原理，避免了純機(jī)械磨損造成的表面劃傷以及純化學(xué)作用下拋光效率低下的問(wèn)題。

CMP過(guò)程中化學(xué)作用進(jìn)行表面侵蝕軟化，機(jī)械作用進(jìn)行材料磨除，在這個(gè)過(guò)程中拋光墊主要起到兩方面的作用，既承載化學(xué)拋光液及反應(yīng)產(chǎn)物，又傳遞加工載荷，保證拋光過(guò)程的平穩(wěn)進(jìn)行，因此拋光墊的微形貌變化和局部的變質(zhì)會(huì)直接影響磨粒和拋光液對(duì)加工材料的效果。因此合理地選擇和使用拋光墊對(duì)控制和優(yōu)化化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程及實(shí)現(xiàn)高效、高質(zhì)量加工具有重要的意義。

金剛石研磨墊，也稱(chēng)鉆石研磨墊，屬于固結(jié)磨料研磨技術(shù)范疇，采用金剛石微粉與樹(shù)脂螯合而成，具有高硬度、高耐磨、高效率等特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、半導(dǎo)體、陶瓷等行業(yè)的研磨和拋光。

金剛石研磨墊的主要作用是對(duì)各種材料表面進(jìn)行高效、精確的研磨和拋光處理。由于金剛石的高硬度特性，金剛石研磨墊可以在短時(shí)間內(nèi)有效地去除材料表面的粗糙度、不平整度或其他缺陷使表面達(dá)到所需的光潔度和精度。

這對(duì)于許多工業(yè)應(yīng)用至關(guān)重要，如光學(xué)元件、半導(dǎo)體材料、陶瓷制品等。在某些情況下，材料表面可能會(huì)出現(xiàn)劃痕或其他損傷，金剛石研磨墊可以用于去除這些劃痕，恢復(fù)表面的光潔度。金剛石研磨墊的高精度研磨能力可以用于制備高精度要求的工件，如光學(xué)鏡片、精密機(jī)械零件等。與傳統(tǒng)的研磨墊相比，金剛石研磨墊的研磨效率更高，可以在較短時(shí)間內(nèi)完成大量的研磨工作，從而提高工作效率。金剛石研磨墊的耐用性和長(zhǎng)壽命意味著它可以減少更換研磨墊的次數(shù)，從而降低生產(chǎn)成本。

研磨拋光技術(shù)在集成電路芯片的制作中具有重要作用，針對(duì)高端研磨拋光相關(guān)的技術(shù)、材料、設(shè)備、市場(chǎng)等方面的問(wèn)題，中國(guó)粉體網(wǎng)將于2025年4月16日在河南鄭州舉辦2025第二屆高端研磨拋光材料技術(shù)大會(huì)。屆時(shí)，鄭州磨料磨具磨削研究所有限公司工程師趙明恩將作題為《金剛石研磨墊應(yīng)用研究》的報(bào)告，報(bào)告針對(duì)金剛石研磨墊市場(chǎng)需求，綜述金剛石研磨墊精密成型方法，系統(tǒng)研究國(guó)內(nèi)外主流金剛石研磨墊產(chǎn)品在多應(yīng)用場(chǎng)景下的加工性能，對(duì)金剛石研磨墊的應(yīng)用領(lǐng)域拓展起到良好的指導(dǎo)作用。

專(zhuān)家簡(jiǎn)介：

趙明恩，鄭州磨料磨具磨削研究所有限公司工程師，畢業(yè)于青島科技大學(xué)材料加工工程專(zhuān)業(yè)，主要從事硬脆材料超精密加工工具金剛石研磨墊、減薄砂輪及其樹(shù)脂結(jié)合劑研發(fā)工作，對(duì)聚氨酯彈性體和橡膠材料產(chǎn)品開(kāi)發(fā)具有豐富經(jīng)驗(yàn)。

參考來(lái)源：

[1] CMP拋光資訊

[2] 梁斌等，CMP拋光墊表面及材料特性對(duì)拋光效果影響的研究進(jìn)展

（中國(guó)粉體網(wǎng)編輯整理/山林）

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