中國粉體網(wǎng)訊 研磨拋光技術(shù)是當(dāng)下把控電子制造業(yè)發(fā)展的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，也是關(guān)系到產(chǎn)品質(zhì)量水準(zhǔn)的一大關(guān)鍵因素，研磨拋光本質(zhì)上是為了獲得超光滑、超精密、無損傷、無缺陷的晶圓表面，以方便后續(xù)光刻得以順利進(jìn)行。為了能夠達(dá)到高質(zhì)量的表面質(zhì)量，工藝、設(shè)備、拋光液等生產(chǎn)工藝的每一環(huán)都至關(guān)重要，精密的檢測設(shè)備、工藝流程評價體系則又是使整個加工過程得以順利進(jìn)行的保障——其中對磨料負(fù)責(zé)的顆粒檢測則是重中之重。
在拋光過程中，拋光液中的化學(xué)添加劑和材料表面發(fā)生反應(yīng)，會在被拋材料表面形成一層很薄、結(jié)合力較弱的“軟化層”，之后磨粒在壓力和摩擦作用下對材料表面進(jìn)行細(xì)微無損地去除。在集成電路制造的前道工序（FEOL）、中道工序（MOL）、后道工序（BEOL）需要對多種不同材料（如SiO2、Cu、Co、W、低K介質(zhì)等）進(jìn)行平坦化，拋光液中的磨料會以微切削、滾壓等方式作用于加工產(chǎn)品表面，以去除表面材料。
磨料的粒徑、形狀、分散度、硬度、濃度等因素會在不同程度上影響著產(chǎn)品表面去除效率、效果。
粒徑：
粒徑分布寬對粗糙表面的適應(yīng)性會更好，大顆�？梢匝杆偃コ牧希☆w�？梢赃M(jìn)入細(xì)小凹陷處進(jìn)行精細(xì)拋光，但也導(dǎo)致加工表面的均勻性較差，需要后續(xù)處理；粒徑分布窄雖然加工表面的一致性較好，但整體拋光和磨削的效率低。
形貌：
球形或類球形顆粒接觸表面的壓力分布均勻，有利于減少劃痕和表面缺陷，但由于接觸面積小而存在效率不足的問題；片狀顆�？梢詼p小磨削過程中產(chǎn)生的劃痕，從而提高晶圓表面的質(zhì)量，但容易破碎和磨損，需要頻繁更換或補(bǔ)充；還有比如拋光液放置的時間過長，可能會使拋光液中的磨料發(fā)生團(tuán)聚，繼而導(dǎo)致拋光過程和質(zhì)量失控等問題……
對于不同工序的不同要求，顆粒檢測就是有效規(guī)避風(fēng)險，控制影響因素，從而提高產(chǎn)品的穩(wěn)定性、可靠性的重要手段。
研磨拋光技術(shù)在集成電路芯片的制作中具有重要作用，針對高端研磨拋光相關(guān)的技術(shù)、材料、設(shè)備、市場等方面的問題，中國粉體網(wǎng)將于2025年4月16日在河南鄭州舉辦2025第二屆高端研磨拋光材料技術(shù)大會。屆時，丹東百特儀器有限公司銷售經(jīng)理任旭將作題為《研磨拋光材料粒度/粒形檢測方法及影響因素》的報告。
專家簡介：
任旭，畢業(yè)于沈陽工業(yè)大學(xué)，現(xiàn)任丹東百特儀器有限公司銷售經(jīng)理，自加入百特一直深耕粒度儀的測試技術(shù)研究和銷售工作，具有扎實(shí)的理論背景，同時又具有多年的顆粒表征實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)，對于粒度檢測方法的研究具有較為深刻的理解。
參考來源：
[1] 中國粉體網(wǎng)
[2] 許寧等，CeO2基磨粒在化學(xué)機(jī)械拋光中的研究進(jìn)展
（中國粉體網(wǎng)編輯整理/山林）
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