公司介紹
奧法美嘉(Alpharmaca)科技有限公司于2010年在上海成立,立足于醫藥行業,耕耘于納米科學材料,不溶性微粒檢測儀,化工,半導體,環境科學,汽車,過濾,涂料,墨水,油品等行業,以專業的納米微米檢測技術,“致力粒度分析,專注客戶體驗”。這已經成為奧法美嘉團隊的信條。公司產品:不溶性微粒檢測儀,不溶性微粒分析儀,納米激光粒度儀,動態光散射儀,納米粒度和zeta電位分析儀,粒度儀,激光粒度儀,大乳粒檢測儀,液體顆粒計數器,光阻法,脂肪乳大顆粒檢測,過濾效率檢測儀,脂肪乳大顆粒,過濾效率,納米粒徑分析儀,不溶性微粒檢查法,納米粒徑分析儀,大乳粒分析儀,在線式液體顆粒計數器,研磨液檢測。借助于
主推產品
PSS Nicomp 380 Z3000 zeta電位檢測儀
500000元Pharmsteri? PTFE筒式過濾器
面議Pharmsteri?II PES0.22緩沖囊式過濾器
面議組合推薦產品
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跨界全球 心芯相聯SEMICON China 2025將于3月26日至28日在上海新國際博覽中心盛大開展。奧法美嘉秉承“傳遞粒度真知,普及納米知識”的理念,專注于CMP中LPC和關鍵化學品(H2O2和HF)濃度監測,助力提升良品率。我們誠邀各位蒞臨奧法美嘉展位參觀,期待與您相會。會期2025年3月26日(周三)~28日(周五)地點上海新國際博覽中心(浦東新區龍陽路2345號)奧法美嘉——展位引導N
在制藥和半導體行業日益增長的強勁需求下,2025年2月,上海奧法美嘉生物科技有限公司與LUM GmbH正式確立了全新的戰略銷售合作伙伴關系。此次合作旨在強化中國本地化技術服務能力,通過顆粒表征、直接分散分析及材料檢測等專業技術,為中國客戶提供精準解決方案。上海奧法美嘉生物科技有限公司,是服務中國工業 4.0產業化升級的資源平臺,自2010年成立以來,始終致力于推動納米技術在生物、制藥、化工、半導體
為幫助各位新老客戶更全面地掌握儀器設備的操作與應用,奧法美嘉將定期舉辦儀器使用線上培訓會。我們特制訂了一系列線上培訓課程面向老客戶,新裝機用戶及需要再次培訓的客戶,以幫助您更高效地使用所購買的儀器。屆時我們的技術人員將會在線上分享儀器使用技術要點和數據分析知識。歡迎各位客戶報名參加,期待在線上與您見面!一、參會資格 本培訓僅面向購買過儀器設備的客戶開放二、課程安排 儀器類目 1.A
第65屆(2024年秋季)全國制藥機械博覽會暨2024(秋季)中國國際制藥機械博覽會將于2024年11月17日-19日在廈門國際博覽中心舉辦。奧法美嘉秉承“傳遞粒度真知,普及納米知識”的理念,專注于為復雜制劑提供從生產制備到粒度表征的高精度粒度解析方案。屆時您將能在(國際二館-生物制藥專區 2-75-2)看到我們的展位及相關展品!誠摯邀請各位蒞臨指導!Entegris(PSS)——液體顆粒計數器A
尊敬的全體客戶和合作伙伴:作為美國應特格微電子公司(Entegris,原PSS)科學器材的總代理,承蒙各位長期以來對奧法美嘉的信任與大力支持,公司發展得以穩步前行,取得了顯著的進步與成就。在此,我們深表感激,并向每一位給予我們支持與合作的伙伴致以最誠摯的謝意。對于目前市場出現的某些第三方公司針對奧法美嘉所銷售的設備提供例如校準、維修、維護等技術服務。我們特做如下提醒:根據GMP的要求,“對計量器具
“ 精準入微,探究納米微觀世界”,奧法美嘉“走進老客戶系列粒度技術交流研討會”將舉行。 “21世紀是納米科技的世紀”,納米科技已成為人類最具創新能力的科學研究領域之一。奧法美嘉深耕于納米科學技術領域,致力于為醫藥、半導體等多行業客戶提供高精度的粒度制備表征一體化解決方案。 多年來,我們引進了美國Entegris(PSS)粒度儀、意大利PSI微射流均質機、日本HM&M珠磨機、德國LUM穩定性
6月21日,涵蓋世界制藥原料、制藥機械、包裝設備與材料等領域的“第二十二屆世界制藥原料中國展”(CPHI China 2024)暨“第十七屆世界制藥機械、包裝設備與材料中國展(PMEC China 2024)”在上海市圓滿落幕。本屆博覽會堅持以全球化視角為世界制藥原料搭建合作共贏的橋梁,分享最新技術動態和未來發展趨勢,成為海內外品牌企業前沿新品、創新技術的首發陣地。奧法美嘉此次攜顆粒制備、粒度表征
2024年6月19-21日,第二十二屆世界制藥原料中國展CPHI China 2024攜手第十七屆世界制藥機械、包裝設備與材料中國展PMEC China 2024亮相上海新國際博覽中心,展示面積21萬平方米,匯聚3500余家國內外展商。 奧法美嘉作為顆粒專家應邀參展,展位號:W5F16誠邀蒞臨! 上海奧法美嘉生物科技有限公司是一家提供納米材料的生產制造,粒度表征,應用開發,分析優化等全面解決方案的
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CMP研磨液粒度測量技術SPOS對比激光衍射CMP研磨液的粒度分析:SPOS與激光衍射半導體行業正在朝著更小的線寬和更多的層數發展。實現這種更高密度芯片技術的最重要的工藝考慮因素之一是對平坦化步驟更復雜的控制。平坦化或拋光步驟通過使用主要為二氧化硅和氧化鋁的膠體分散金屬氧化物漿料(化學機械平坦化或 CMP)來實現,平均直徑在 10 – 200 nm 范圍內。這些研磨液被施加到放置晶片的旋轉拋光墊上
噴墨油墨的顆粒濃度監測AccuSizer ?概述噴墨油墨是顏料在溶液中的膠體分散體。顏料的適當分散是必要的,以避免由于結塊而導致的沉淀、不穩定或噴墨噴嘴故障。確保最佳的配方和制造工藝需要一種可靠的方法來確定最終產品的粒度分布。Entegris AccuSizer? 單顆粒光學傳感技術 (SPOS) 系統非常適合確定最終噴墨墨水是否包含過大顆粒,這些顆粒會帶來噴頭堵塞并導致其他性能下降的風險。本應用
要檢測多少粒子?AccuSizer ?系統AccuSizer? 生成的結果是粒度分布。分布的屬性受統計規則的約束。使用粒度分析儀時,一個重要的問題是需要測量多少樣品才能正確定義所得粒度分布。本技術說明從數學和實驗兩個方面解決這個問題。介紹如果樣品中的所有顆粒大小完全相同,則測量一個顆粒并報告結果。如果樣品的分布很窄,比如說 10 – 25 μm,那么也許只測量少量顆粒就可以定義粒度分布。但是,如果
為什么購買AccuSizer顆粒計數系統?有太多理由讓您的下一個粒度分析儀選擇AccuSizer?系統什么是ACCUSIZER系統使用單顆粒光學傳感 (SPOS) 技術的顆粒計數器和粒度分析儀。具有多種配置可選,但所有系統都包括SPOS傳感器,脈沖高度分析儀(或計數器)和樣品流通池,用于通過傳感器傳輸樣品。許多樣品流通池自動將樣品稀釋至最佳濃度,以獲得最準確的結果。在多達 1024 個粒徑通道中報
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CMP研磨液粒度測量技術SPOS對比激光衍射CMP研磨液的粒度分析:SPOS與激光衍射半導體行業正在朝著更小的線寬和更多的層數發展。實現這種更高密度芯片技術的最重要的工藝考慮因素之一是對平坦化步驟更復雜的控制。平坦化或拋光步驟通過使用主要為二氧化硅和氧化鋁的膠體分散金屬氧化物漿料(化學機械平坦化或 CMP)來實現,平均直徑在 10 – 200 nm 范圍內。這些研磨液被施加到放置晶片的旋轉拋光墊上
2023-11-10
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