
上海依肯機械設備有限公司

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石墨烯/碳納米管復合導電漿料的制備設備——改進型膠體磨
一種石墨烯/碳納米管復合導電漿料的制備方法,包括如下步驟:
1、將分散劑分散到溶劑中,然后加入碳納米管攪拌均勻,然后進行初步研磨分散,形成碳納米管分散液A;
2、將分散劑分散到溶劑中然后加入石墨并通過預分散處理,即首先通過機械攪拌直至攪拌均勻,然后再經(jīng)高速剪切機進行剪切分散形成石墨分散液B;
3、將碳納米管分散液A與石墨分散液B經(jīng)對撞設備將兩股高壓液流在同軸相向流道中對撞,即將碳納米管分散液A與石墨分散液B兩股液流經(jīng)兩條液流匯合在一處,線性的碳管嵌入到石墨的片層之間形成碳管插層石墨中間體,然后在液流從噴嘴釋放瞬間形成極高的壓力差(高達3000bar),從而將石墨爆破形成具有完美晶體結構的石墨烯,同時碳管均勻分布于石墨烯表面上,形成石墨烯/碳納米管復合導電漿料
石墨烯/碳納米管復合導電漿料的制備設備就屬上海依肯機械改進型膠體磨最合適,該機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。主要由兩層分散頭構成,工作時,物料通過投料口進入分散腔,首先到達層分散頭進行處理,由于馬達帶動轉子齒列高速運轉,產(chǎn)生渦流和離心力效應使得物料軸向吸入分散頭,然后沿著定-轉子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用,之后在轉子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切,接著流出的物料進入第二層分散頭腔體,對處理過的物料再次進行剪切(原理同上),從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,生成的混合液穩(wěn)定性更好,滿足生產(chǎn)對于粒徑的要求。
改進型膠體磨的結構:是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
設備其它參數(shù):
設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
CMSD2000系列改進型膠體磨設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10%
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