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納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間,是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產品,表現出許多特殊的性質,如非遷移性,熒光性,壓電性,吸收和散射紫外線能力等,利用其在光,電,磁,敏感等方面的奇妙性能,可制造氣體傳感器,熒光體,變阻器,圖像記錄材料,壓電材料,壓敏電阻,高效催化劑,磁性材料和等。

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納米氧化鋅的分散難點：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中,容易出現抱團的現象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產品改性不充分。

如果使用普通的分散設備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會出現團聚的現象,團聚體難以打開,而如果采用IKN**研發的分散設備,研磨分散機的話,先研磨后分散機,解決團聚問題,可達納米氧化鋅還原至納米級。

IKN研磨式分散機,是由 分散機結合而成的設備,主要是為了解決納米級物料的分散,如：納米,納米氫氧化鎂,納米氧化鋁,石墨烯,碳納米管等納米級物料的分散。

CMD2000系列研磨分散設備是IKN公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機的特點：

① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。