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簡介： 智能PECVD設備是目前最新型的一款設備，將所有的控制部分集為一體，此款設備是我司在2013年獲得專利的設備。可配備PE射頻電源，將CVD系統升級為PECVD。當參與反應的氣氛進入爐管在射頻電源的作用下產生離子體，可使反應更加充分。同時等離子體起增強的作用，從而很大程度上優化實驗的工藝條件。 我公司研制的滑軌式PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現象。 1、與傳統CVD系統比較，生長溫度更低。 2、使用滑軌爐實現快速升溫和降溫。 3、設備特有的專利技術使得整管輝光均勻等效，均勻生長。