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真理光學助力醫(yī)藥粉體顆粒分析表征測試

真理光學助力醫(yī)藥粉體顆粒分析表征測試
真理光學  2024-06-19  |  閱讀:1052

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2024年6月19日-21日“第二十二屆世界制藥原料中國展(CPHI China 2024)將繼續(xù)攜手“第十七屆世界制藥機械、包裝設備與材料中國展”(PMEC China 2024)在上海浦東新國際會展中心盛大召開。CPHI上海制藥展作為中國制藥領域規(guī)模最大的展位盛會,去年展會引超過3400家展商參展,今年展會規(guī)模進一步擴大,吸引超過3,500家國內外展商以及逾90,000人次海內外專業(yè)觀眾到現場,為CPHI展覽史上規(guī)模最大一次,其中N1-N5,W1-W5,E1-E7室內展館全滿另外敷設W6-W11和E9和N6室外館,展示規(guī)模達到21萬平方米

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真理光學作為醫(yī)藥粉體顆粒分析表征測試的高端顆粒儀器制造商,每年都參與上海CPHI國際制藥展。今年展會,我司分別在W5館測試設備館和E3藥用輔料館設置了展位,現場為廣大醫(yī)藥領域專業(yè)觀眾帶來了除了化藥領域深受API和醫(yī)藥研發(fā)人員喜愛的全自動干濕法激光粒度分析儀產品,還有最新升級產品Nanolink SZ902系列納米粒度及Zeta分析儀以及首次亮相的針對吸入治療領域開發(fā)的霧化分析解決方案產品。這些優(yōu)秀的產品為制藥行業(yè)的研發(fā)和質量控制提供全面的藥物顆粒測試解決方案。

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展會期間,真理光學除了帶來上述最新產品,同時還安排了專業(yè)工程師和區(qū)域銷售經理在展位現場為大家介紹公司全新研發(fā)的顆粒分析儀器新技術和新功能,同時還為前來咨詢的觀眾準備了小禮品,歡迎大家蒞臨展會現場參觀和技術交流。

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上屆CPHI展會圖片

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