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等離子體刻蝕制造器件過程中，有數個元件可用陶瓷材料制備。等離子體刻蝕的*片應放置在一個陶瓷支架上。為了避免支架上的晶體受到感染，該支架必須能夠完全抵擋等離子體侵入。另外，刻蝕設備的一個關鍵雪件是窗口遮擋裝置，用干傳輸電磁波，在產生等離子體的同時陰擋第四階段物質的侵入。

Nanoe基于上述兩項應用推出一種高純度氧化鋁材料，其中加入氧化釔，允許制作出足夠密度、能抵擋等離子體的工件。