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主要特點：該區(qū)域熔融爐設計為金屬材料或半導體材料區(qū)域融化提純使用，爐體加熱區(qū)長度100mm，高精度電機經過PLC控制以緩慢平穩(wěn)的速度推進，行進速度可調，**使用可達1100℃，設備采用雙層風冷結構，殼體表面溫度＜60℃，保溫材料為超細氧化鋁纖維，節(jié)能環(huán)保，溫場均勻性良好。

    立式結構設計，可使樣品在區(qū)熔純化過程中處于垂直狀態(tài)。相較水平狀態(tài)，可避免重力影響。有利于金屬樣品處理。該設備設計為雙工位結構，爐體可垂直或者水平工作狀態(tài)。兩臺區(qū)熔工位通過管道和真空系統(tǒng)相連。

技術參數：

1、加熱方式：電阻加熱和感應加熱

2、電源電壓：220V或380V 50Hz

3、區(qū)熔速度：10-100mm/h

4、區(qū)熔寬度：30-50mm

5、石英管長度：1000mm

6、移動距離：600mm

7、石英管外徑：40mm

8、加熱溫度區(qū)間：100-600℃

9、測溫方式：熱電偶（加熱區(qū)、冷卻區(qū)共3個熱電偶）

10、真空系統(tǒng)：

（1）前級泵為雙極旋片機械泵

（2）配備分子泵

（3）真空閥門，真空管道，結構合理，運行穩(wěn)定。

（4）真空計采用電離、電阻復合真空計

極限真空度：1*10-3Pa（冷態(tài)，潔凈，無坩堝保溫層）

11、冷卻區(qū)溫度：≤ 30℃