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ETD-2000III型三靶離子濺射儀
是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶，旋轉樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。
工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得**鍍膜效果。
配有高位定性的飛躍真空泵
The ETD-2000III type three target ion sputtering apparatus is the simplest， reliable and economical coating equipment designed on the basis of DC (DC) sputtering principle. This machine is specially designed to install three targets in a vacuum chamber. The rotating sample stage can be coated with three materials on the same sample in turn. Therefore， it is suitable for the preparation of various composite membrane samples and the fabrication of experimental electrodes for non conductor materials. It is easy to control the vacuum chamber pressure， ionization current and choose the required ionization gas when working in conjunction with the internal automatic control circuit， so as to achieve the best coating effect. High qualitative jump vacuum pump
| 濺射氣體 | 濺射靶材 | 濺射電流 | 濺射速率 | 樣品倉尺寸 | 樣品臺尺寸 | 工作電壓 |
| 根據實驗目的可添加氬氣，氮氣等多種氣體。 | 標配靶材為金靶，厚度為50mm*0.1mm。也可根據實際情況配備銀靶、鉑靶等。 | **電流 50mA，**工作電流30mA | 優于40nm/min | 直徑160mm，高120mm | 樣品臺尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺，也可根據自身要求定制樣品臺 | 220V (可做110V)， 50HZ |
需要鍍膜的樣品
| 電子束敏感的樣品 | 非導電的樣品 | 新材料 |
| 主要包括生物樣品，塑料樣品等。S EM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料，那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結構。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用，防止此類損傷； | 由于樣品不導電，其表面帶有“電子陷阱”，這種表面上的電子積累被稱為“充電”。為了消除荷電效應，可在樣品表面鍍一層金屬導電層，鍍層作為一個導電通道，將充電電子從材料表面轉移走，消除荷電效應。在掃描電鏡成像時，濺射材料增加信噪比，從而獲得更好的成像質量。 | 非導電材料實驗電極制作觀察導電特性 |
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