看了精微高博靜態容量法蒸氣吸附儀JW-ZQ200的用戶又看了
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結構
項目 | ZQ200C | ZQ100C | ZQ100B |
蒸汽發生器 | 1個 | 1個 | 1個 |
蒸汽站 | 1個(1/0.1 Torr) | 1個(1/0.1 Torr) | 1個(10 Torr) |
微孔站 | 1個(1/0.1 Torr) | 無 | 無 |
傳感器 | 7個 | 5個 | 4個 |
冷阱 | 1個 | 2個 | 2個 |
預處理位 | 無(可原位預處理) | 2個 | 2個 |
恒溫水浴 | 1個(0~50°C) | 1個(0~50°C) | 1個(0~50°C) |
1L液氮杯 | 2個 | 無 | 無 |
3L液氮杯 | 1個 | 2個 | 2個 |
機械泵 | 2個(含1個耐腐蝕泵) | 2個(含1個耐腐蝕泵) | 1個耐腐蝕泵 |
分子泵 | 1個 | 1個 | 無 |
特點
帶蒸汽發生器作為吸附氣氣源
外氣室為不銹鋼模塊，帶恒溫箱（室溫~50°C）
蒸汽吸附系統，抽真空時經過冷阱
密封件采用全氟O形圈
功能
低溫氮吸附法，比表面及孔徑分布測試
各種氣體和蒸汽的吸附等溫線測試
等量吸附熱測定
氣體選擇性吸附系數測定
技術參數
項目 | ZQ200C | ZQ100C | ZQ100B |
測試原理 | 靜態容量法 | 靜態容量法 | 靜態容量法 |
物理吸附性能 | 比表面≥ 0.01m2/g 介孔：2 ~500nm（BJH法）微孔：0.35 ~2 nm (t圖法、DR法、MP法、DA法、HK法、SF法、NLDFT法) | 同ZQ200C | 同ZQ200C |
物理吸附質 | 氮氣、氬氣、氪氣、二氧化碳等 | 同ZQ200C | 同ZQ200C |
蒸汽吸附質 | 一氧化碳、氨氣等氣體以及常溫下為液體的物質（有強烈腐蝕、劇毒、危險氣體除外） | 同ZQ200C | 同ZQ200C但p0需大于1kPa |
物理吸附溫度 | 77K，87K | 同ZQ200C | 同ZQ200C |
蒸汽吸附溫度 | 0~50°C | 同ZQ200C | 同ZQ200C |
蒸汽回收 | 分析位蒸汽冷阱回收 | 分析位和預處理位雙冷阱蒸汽回收 | 同ZQ100C |
預處理 | 真空原位預處理 | 預處理位+原位真空處理 | 同ZQ100C |
測試原理靜態容量法
測試范圍比表面≥ 0.01m2/g
介孔 2 ~500nm（BJH法）
微孔 0.35 ~2 nm (T圖法、DR法、MP法、DA法、
HK法、SF法、NLDFT法)
氣體種類氮、氬、氪、CO2、CO、氨、苯、甲烷、乙醇、甲醛、水蒸汽等（有強烈腐蝕、劇毒、危險氣體除外）
氣體發生器當吸附質在常溫常壓下是液體時，可通過氣體發生器
形成吸附質蒸汽，滿足進行氣體吸附測試的要求
吸附壓力 P/Po < 1 （Po吸附質在吸附溫度下的飽和蒸汽壓）
真空泵進口特種耐腐蝕二級旋片式真空泵，極限真空10-1Pa
分子泵
壓力傳感器 1000 Torr、10Torr、1Torr
吸附溫度液氮杯提供液氮溫度測試條件，半導體恒溫水浴提供 0°~ 50°C 測試條件
進氣數量按客戶要求，提供4×n 個（4、8、12）獨立進氣口
氣體回收有害氣體通過冷阱回收（冷阱溫度77K），確保環境和機械泵油免受污染
預處理真空原位預處理，溫度≤400°C±1°C
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