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型號規格：PDC－BGL

整機規格：750×780×1660（長×寬×高）mm

整機重量：400 Kg

反應艙規格：600×470×470（長×寬×高）mm(不銹鋼)反應艙有效容積：110 L

輸入電源：380（三相）V／50Hz

整機輸入功率：2500 W（含真空泵）

射頻功率：0～1000Ｗ（連續可調）

射頻頻率：13.56 MHz

數字定時器：0～99.99 min

極限真空度： 50 Pa

浮子流量計： 0.1～1.6 L／min 量程

觀察窗： 觀察清洗艙內輝光狀態

常用工作氣體： 空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等

設備優點：

整機一體化、結構緊湊、安裝方便。

常溫條件下對樣品進行非破壞性超清洗。

清除樣品表面的有機污染物。

氣體清洗介質使樣品清洗后無二次污染。

設備操作簡單方便，使用成本極低，易于維護。

具有表面清洗、表面活化、表面刻蝕和表面沉積的功能。

應用領域：

LED、LCD、PCB、觸電子生產領域中的超清洗。

移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質，去除金屬材料表面的氧化物。

清洗半導體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。

封裝領域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝殛粘和。

涂覆鍍膜領域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性，使其活化，增強

表面粘附性、浸潤性、相容性，顯著提高涂覆鍍膜質量。