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美國光學膜厚儀，廣泛應用于各種薄膜、涂層光學常數(n and k)和厚度的精確測量，設備分為在線和離線兩種工作模式，操作便捷，幾秒鐘內即可完成測量和數據分析，USB 連接計算機控制；

薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發生與膜厚及折光系數等有關，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學薄膜厚度測量技術，我們的薄膜測量系統采用光干涉原理測量薄膜厚度。

應用：

半導體（光刻膠、氧化物和氮化物等），

液晶顯示器（ITO， Polyimide， Cell gap），

法醫鑒定、生物薄膜和材料；

墨水、礦物、染料、化妝品；

硬質涂層、減反射涂層、濾波涂層；

醫藥、醫療器件；

光學薄膜、TiO2， SiO2， Ta2O5；

半導體化合物；

功能薄膜（MEMS/MOEMS）；

非晶硅、納米晶硅、晶體硅；

技術參數：

測量范圍：20 nm to 50 μm (Thickness only)，

100 nm to 10 μm (Thickness with n and k) ；

多層測量：Up to 4 layers；

光點大小調節范圍：0.8 mm to 1 cm ；

薄膜厚度測量精度：±0.5%；

厚度測重復性：0.1nm；

樣品臺尺寸：200 mm × 200 mm；

主要特點：

*基片折射率和消光系數測量；

*薄膜厚度測量，平均值和標準偏差分析；

*薄膜折射率和消光系數測量；

*適用于不用材質和厚度的薄膜、涂層和基片；

*測試數據輸出和加載；

*直接Patterned或特征機構的試樣測試；

*可用于實時在線薄膜厚度、折射率監測；

*波長范圍可選；

*系統配備強大的光學常數庫和材料數據庫，便于測試和數據分析；