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簡介
1200℃低真空CVD系統是由滑動式管式實驗電爐，混氣系統，真空及壓力系統等組成。此系統燒結溫度可達1200℃，通過滑動爐體來實現快速的升降溫；配置不同的真空系統來達到理想的真空度；同時通過三路高精度質量流量計控制不同氣體。是為石墨烯生長、研發的專用爐，也同樣適用于要求升降溫速度比較快的CVD實驗。
主要技術參數
爐體結構 | 整機采用SUS304不銹鋼材質，流線型外觀，斷熱式結構； 日本技術真空吸附成型的優質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好； 爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩； 爐子可以手動從一端滑向另一端，實現快速的加熱和冷卻； 支撐兩端安裝油壓緩沖器； 爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料 |
尺寸重量 | 1240*600*1340mm；170kg |
電源 | 電壓：AC220V 50/60Hz；功率：4KW |
爐管 | 高純石英管，高溫下化學穩定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數極小； 尺寸：Φ60/80/100*1200mm |
法蘭及支撐 | SUS304不銹鋼快速法蘭，通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空； 一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷； 可調節的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐； 包含進氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合。 |
加熱系統 | 加熱元件采用優質合金絲，表面負荷高、經久耐用； 加熱區長度：300mm；恒溫區長度：150mm； 工作溫度：≤1150℃； **溫度：1200℃； 升溫速率：推薦≤10℃/min，*快升溫速度30℃/min |
溫控系統 | 日本富士儀表，64段控溫程序，可分步、分段； 測溫元件：N型熱電偶； 控溫精度：±1℃ |
混氣系統 | 三路質量流量計：數字顯示、氣體流量自動控制 內置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥 管路采用不銹鋼管，接口為Φ6卡套 每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥 通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量 流量規格：0~1SLM 流量精度：±1.5% |
真空系統 | 采用雙極旋片真空泵，真空度可達10Pa |
可選配件 | 高真空系統，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計算機控制軟件 |
保修期 | 整機一年保修（相關耗材除外） |
可根據客戶要求定制！
特色與優勢
1.滑動式爐體結構實現快速升降溫；
2.開啟式爐蓋設置，降低沉積溫度、加快沉積速度；
3.日本富士溫控儀表，64段控溫程序，可分布，分段，三路質量流量計，數字顯示精確控制氣體流量；
4.雙極旋片真空泵+分子泵，實現對真空度的不同要求，極限真空可達4.0*10-4Pa。
暫無數據！
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