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產品描述 全自動程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡潔，可鍍金（Au)、鉑(Pt)等不氧化貴金屬，也可鍍銥(Ir)、鉻(Cr)、鋁(Al等多種精細顆粒的易氧化膜材。 應用范圍 特別適合場發射電鏡、透射電鏡制樣及制作無定形碳覆形膜/TEM柵網支持膜，也可為薄膜應用等材料領域提供理想的鍍膜平臺。 產品型號 Q150T S（高分辨率磁控離子濺射鍍膜儀，可選輝光放電附件）、Q150T E（高真空熱蒸發鍍膜儀，用于蒸碳和可選蒸鍍金屬）和Q150T ES（集成了離子濺射和蒸鍍兩種沉積功能的鍍膜儀）。 |
名稱 | 規格 |
工作腔室 | 150mm內徑 x 127mm高 |
用戶界面 | 觸摸屏全圖像用戶界面 |
樣品臺 | 標配旋轉臺 |
真空系統 | 渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵；旋轉機械泵：雙級旋轉機械泵 |
濺射電流 | 0-150mA；可預設膜厚（需FTM選項）或使用內置定時器 |
濺射時間 | *長60分鐘 |
碳蒸發 | 穩定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發，確保源自碳棒或碳絲的可重復蒸碳。 |
尺寸和重量 | 儀器機箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm) 重量：33.4Kg |
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