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TAHOE清洗設(shè)備品牌
盛美半導(dǎo)體產(chǎn)地
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槽式SPM清洗模塊與單片清洗腔體相結(jié)合來進行去膠工藝。SPM的壽命可通過使用時間和工藝片數(shù)來控制。現(xiàn)階段，SPM的使用量跟單片高溫清洗設(shè)備相比能減少80%以上。
單片晶圓腔體內(nèi)可配置通用藥液比如DHF,SC1,SC2和O3。可按要求配置噴嘴和/或者兆聲波清洗來提高去除顆粒污染物的效率。
工藝的順序可靈活設(shè)置，該設(shè)備可按照不同的產(chǎn)品需求進行槽式清洗工藝或者只進行單片清洗工藝。
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