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二氧化硅含量9999（%）
熔點1700（℃）
莫氏硬度7
密度2.3（g/cm3）
用途半導體、電光源器、通信裝置、激光器光學儀器、化學儀器、電學設備、醫療設備、電子行業、冶金、建材
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