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化學機械拋光機 TMP-200S品牌
北京特思迪產地
北京樣本
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化學機械拋光機
TMP-200S/300S
該系列設備是適用于薄膜（介質層）的CMP拋光設備，包括氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產品的平坦化拋光。采用多分區氣囊加壓方式，可實現納米級精密去除，配置半自動上下片系統，可根據需求選配摩擦力、電渦流、在線紅外檢測等EPD功能。
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