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Sciyea二氧化硅拋光液主要由高純度的氧化硅微粉所組成。可避免加工時易產生的刮傷現象，適用于工件的精拋，能達到工件要求的鏡面效果，可替代同類進口產品。
基本信息
適用于藍寶石材料、超硬陶瓷材料、硅片、不銹鋼、鎂鋁合金、化合物半導體等拋光加工；
PH值穩定基本保持不變
含量15-45（w%）
廣泛用于多種材料的納米級化學機械拋光
特性
粒徑均一（粒徑分布窄，形貌成正球狀）
拋光效率高（特殊配方，PH穩定不變）
高平坦度（表面質量Ra＜0.2nm TTV＜3um）
循環次數多，使用壽命長
結晶速度慢，性能穩定
產品詳情
| 型號 | 中心粒徑（nm） | PH值 | 應用領域 |
3800 | 20-40 | 10.0 | 單晶硅、碳化硅、砷化鎵、激光晶體等化合物半導體。 |
| 3801 | 60-80 | 10.0 | 藍寶石襯底、激光晶體、光學晶體、鈮酸鋰、鉭酸鋰等。 |
| 3803 | 80-120 | 10.5 | 激光晶體、精密金屬、鋁合金、氧化鋁陶瓷。 |
| 3803S | 60-80 | 3.0 | 氮化鋁陶瓷 |
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