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批次生產型高真空蒸發鍍膜設備，用于在基板表面沉積各種金屬薄膜(Ti\Ni\Ag\Cr\AI等) 滿足 2-8inch Wafer 生產需求，能夠**限度的壓縮腔體尺寸，減少抽氣時間，提高生產效率。
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