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ED-1500D高真空蒸發鍍膜設備品牌
澤鴻半導體產地
江蘇樣本
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設備概述
批次生產型高真空蒸發鍍膜設備，用于在基板表面沉積各種金屬薄膜(Ti\Ni\Ag\Cr\A|等)滿足 2-12inch Wafer 生產需求，適合大批量金屬沉積工藝或者 Lift off 工藝。
技術特點
雙冷泵配置，快速高效排氣，超大腔體設計，大產能優勢，低材料消耗，低成本生產。
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